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公开(公告)号：CN105938208A
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201511029859.6
申请日：2015-12-31
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种包括光阻挡层的装置以及图案化所述光阻挡层的方法。所述装置包括：基板、在基板上的光阻挡层、覆盖在基板上的光阻挡层的钝化膜、在钝化膜上的薄膜晶体管、覆盖薄膜晶体管的另一钝化膜、在所述另一钝化膜上的彩色滤光片以及在所述另一钝化膜上且覆盖彩色滤光片的绝缘层，其中使用包括耐热聚合物、交联剂、黑色着色剂以及溶剂的组成物来图案化光阻挡层。所述包括光阻挡层的装置可实现均匀精细的图案。
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公开(公告)号：CN105938208B
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201511029859.6
申请日：2015-12-31
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种包括光阻挡层的装置以及图案化所述光阻挡层的方法。所述装置包括：基板、在基板上的光阻挡层、覆盖在基板上的光阻挡层的钝化膜、在钝化膜上的薄膜晶体管、覆盖薄膜晶体管的另一钝化膜、在所述另一钝化膜上的彩色滤光片以及在所述另一钝化膜上且覆盖彩色滤光片的绝缘层，其中使用包括耐热聚合物、交联剂、黑色着色剂以及溶剂的组成物来图案化光阻挡层。所述包括光阻挡层的装置可实现均匀精细的图案。
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公开(公告)号：CN107636111B
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201580079993.9
申请日：2015-12-04
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 提供一种通过寡聚物或聚合物钝化(passivation)的量子点、含其的组成物及其的制法及半导体薄膜与装置，所述寡聚物或聚合物通过使第一单体与第二单体反应获得，所述第一单体的末端具有至少三个硫醇基(‑SH)，所述第二单体的末端具有至少两个能够与硫醇基反应的官能基(functional group)及在至少两个官能基之间的间隔基(spacer group)。通过寡聚物或聚合物钝化的量子点可具有改良的抗氧气或湿气的稳定性、及改良的热稳定性及光学稳定性、及于薄膜形成期间所用的溶剂或基质树脂中充分分散。
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公开(公告)号：CN107636111A
公开(公告)日：2018-01-26
申请号：CN201580079993.9
申请日：2015-12-04
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: G02F1/017 , C09K11/02 , C09K11/54 , C09K11/565 , C09K11/70 , C09K11/883 , G02F1/133711 , G02F2001/01791
Abstract: 提供一种通过寡聚物或聚合物钝化(passivation)的量子点，所述寡聚物或聚合物通过使第一单体与第二单体反应获得，所述第一单体的末端具有至少三个硫醇基(-SH)，所述第二单体的末端具有至少两个能够与硫醇基反应的官能基(functional group)及在至少两个官能基之间的间隔基(spacer group)。
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