公开(公告)号：CN107400140A

公开(公告)日：2017-11-28

申请号：CN201710432191.2

申请日：2012-06-14

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 佐久间谕 ,  芹泽昌史 ,  安田敦 ,  矢田信久 ,  前田晋一

IPC: C07D493/08 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/34 ,  C08F222/14

Abstract: 一种下述通式(iii)表示的化合物，式中，A1～A6各自独立地表示氢原子、甲基、或乙基，X表示氧原子、硫原子、亚甲基、或亚乙基，R1表示丙烯酰基或甲基丙烯酰基。

公开(公告)号：CN105061454B

公开(公告)日：2019-09-27

申请号：CN201510477325.3

申请日：2012-06-14

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 佐久间谕 ,  芹泽昌史 ,  安田敦 ,  矢田信久 ,  前田晋一

IPC: C07D493/18 ,  C07D307/93 ,  C07D307/77

Abstract: 通过具有硼氢化反应工序和酸处理工序的方法，能够以高收率制造杂质少的醇化合物，上述硼氢化反应工序是在溶剂中使式(C)表示的化合物与选自乙硼烷和硼烷配位化合物中的硼化剂反应而得到反应液，上述酸处理工序是将该反应液进行过氧化氢处理后，加入酸而使得pH为0.5～4。式中，A1～A6各自独立地表示氢原子、甲基、或乙基，X表示氧原子、硫原子、亚甲基、或亚乙基。

公开(公告)号：CN107383044A

公开(公告)日：2017-11-24

申请号：CN201710454324.6

申请日：2012-06-14

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 佐久间谕 ,  芹泽昌史 ,  安田敦 ,  矢田信久 ,  前田晋一

IPC: C07D493/18 ,  C07D307/00 ,  C07D307/89

Abstract: 一种(甲基)丙烯酸酯的制造方法，其具有以下工序：通过醇化合物的制造方法，由下述通式(C)表示的化合物得到作为杂质下述通式(ii)表示的化合物的含量小于9质量％的下述通式(D)表示的醇化合物的工序，以及通过酯化反应由下述通式(D)表示的化合物得到作为杂质下述通式(iii)表示的化合物的含量小于9质量％的下述式(A)表示的(甲基)丙烯酸酯的工序，式中，R1表示氢原子或甲基，A1～A6各自独立地表示氢原子、甲基、或乙基，X表示氧原子、硫原子、亚甲基、或亚乙基，R1表示丙烯酰基或甲基丙烯酰基。

公开(公告)号：CN104487484B

公开(公告)日：2020-07-31

申请号：CN201380034210.6

申请日：2013-06-25

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 土屋征司 ,  前田晋一

IPC: C08G63/90 ,  C08G63/91

Abstract: 本发明的高分子化合物的制造方法包括下述工序(a)、(b)。工序(a)：在酸催化剂或碱催化剂的存在下得到高分子化合物的工序。工序(b)：使工序(a)所得到的含有高分子化合物的溶液接触阴离子交换树脂和阳离子交换树脂的混合树脂的工序。

公开(公告)号：CN108484822A

公开(公告)日：2018-09-04

申请号：CN201810272754.0

申请日：2014-06-12

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 加藤圭辅 ,  安田敦 ,  安斋龙一 ,  前田晋一

IPC: C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/42 ,  G03F7/023 ,  G03F7/039

CPC classification number: C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/42 ,  C08F2220/283 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0397

Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂用共聚物，使用该抗蚀剂用共聚物时，灵敏度良好，形成的抗蚀剂图案的形状良好，抗蚀剂图案作为掩膜进行干蚀刻时的耐干蚀刻性良好，能够控制对基板进行干蚀刻加工时形成的图案的表面粗糙度。该抗蚀剂用共聚物具有基于具有金刚烷环等的环烃基、及与该环烃基键合的2个以上氰基的(甲基)丙烯酸酯衍生物的结构单元(1)、具有内酯骨架和桥环结构的结构单元(2)和具有酸离去基团的结构单元(3)。

公开(公告)号：CN105153186B

公开(公告)日：2020-05-01

申请号：CN201510477309.4

申请日：2012-06-14

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 佐久间谕 ,  芹泽昌史 ,  安田敦 ,  矢田信久 ,  前田晋一

IPC: C07D493/18 ,  C07D307/89 ,  C07D307/00 ,  C07D307/88 ,  C08F220/18 ,  G03F7/039 ,  G03F7/00

Abstract: 通过具有硼氢化反应工序和酸处理工序的方法，能够以高收率制造杂质少的醇化合物，上述硼氢化反应工序是在溶剂中使式(C)表示的化合物与选自乙硼烷和硼烷配位化合物中的硼化剂反应而得到反应液，上述酸处理工序是将该反应液进行过氧化氢处理后，加入酸而使得pH为0.5～4。式中，A1～A6各自独立地表示氢原子、甲基、或乙基，X表示氧原子、硫原子、亚甲基、或亚乙基。

公开(公告)号：CN107400140B

公开(公告)日：2020-04-07

申请号：CN201710432191.2

申请日：2012-06-14

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 佐久间谕 ,  芹泽昌史 ,  安田敦 ,  矢田信久 ,  前田晋一

IPC: C07D493/08 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/34 ,  C08F222/14

Abstract: 一种下述通式(iii)表示的化合物，式中，A1～A6各自独立地表示氢原子、甲基、或乙基，X表示氧原子、硫原子、亚甲基、或亚乙基，R1表示丙烯酰基或甲基丙烯酰基。