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公开(公告)号：CN105612200A
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201480055652.3
申请日：2014-10-14
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
CPC classification number: C08G59/66 , C08G59/245 , C08G75/08 , C08G75/12 , C08G75/14 , G02B1/041 , C08L81/02 , C08L81/04
Abstract: 根据本发明，可以提供包含多硫醇化合物以及聚环氧化合物和/或聚环硫化合物的光学材料用组合物，所述多硫醇化合物满足下述i)至iii)中的任一者：i)铵阳离子浓度为0.1～150μmol/kg；ii)硫氰酸根阴离子浓度为0.1～300μmol/kg；或iii)铵阳离子浓度为0.1～150μmol/kg，硫氰酸根阴离子浓度为0.1～300μmol/kg，进而铵阳离子与硫氰酸根阴离子的离子浓度积为0.01～15000(μmol/kg)2。
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公开(公告)号：CN104114608A
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201380009317.5
申请日：2013-02-13
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 根据本发明，通过包含(a)硫、(b)分子内具有2个环硫化物基的化合物、(c)具有1个以上(优选为2个)SH基的化合物、(d)具有特定结构的胺化合物的光学材料用组合物的制造方法，使(a)化合物与(c)化合物在(b)化合物的存在下以(d)化合物作为预聚催化剂，从而能够提供预聚反应时的粘度上升速度小、可使反应温度为室温附近的低粘度且粘度上升小的光学材料用聚合性组合物。另外，根据本发明的其他方式，能够制造通过(a)硫、(b)分子内具有2个环硫化物基的化合物、(c)具有1个以上SH基的化合物、(d)具有特定结构的受阻胺催化剂的存在下进行聚合而得到的脱模性优异、进而实质上没有纹理的光学材料。
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公开(公告)号：CN105612200B
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201480055652.3
申请日：2014-10-14
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 根据本发明，可以提供包含多硫醇化合物以及聚环氧化合物和/或聚环硫化合物的光学材料用组合物，所述多硫醇化合物满足下述i)至iii)中的任一者：i)铵阳离子浓度为0.1～150μmol/kg；ii)硫氰酸根阴离子浓度为0.1～300μmol/kg；或iii)铵阳离子浓度为0.1～150μmol/kg，硫氰酸根阴离子浓度为0.1～300μmol/kg，进而铵阳离子与硫氰酸根阴离子的离子浓度积为0.01～15000(μmol/kg)2。
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公开(公告)号：CN104114608B
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201380009317.5
申请日：2013-02-13
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 根据本发明，通过包含(a)硫、(b)分子内具有2个环硫化物基的化合物、(c)具有1个以上(优选为2个)SH基的化合物、(d)具有特定结构的胺化合物的光学材料用组合物的制造方法，使(a)化合物与(c)化合物在(b)化合物的存在下以(d)化合物作为预聚催化剂，从而能够提供预聚反应时的粘度上升速度小、可使反应温度为室温附近的低粘度且粘度上升小的光学材料用聚合性组合物。另外，根据本发明的其他方式，能够制造通过(a)硫、(b)分子内具有2个环硫化物基的化合物、(c)具有1个以上SH基的化合物、(d)具有特定结构的受阻胺催化剂的存在下进行聚合而得到的脱模性优异、进而实质上没有纹理的光学材料。
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