公开(公告)号：CN118984841A

公开(公告)日：2024-11-19

申请号：CN202380033030.X

申请日：2023-04-10

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 佐藤英之 ,  荒井启克 ,  中村裕介 ,  松下海瑠 ,  加藤宣之

IPC: C08F8/04 ,  C08F212/00 ,  G02B1/04

Abstract: 本发明提供一种用于以高环上氢化率得到具有充分的耐热性的氢化聚合物的、将芳香族乙烯基化合物系聚合物的芳香环氢化(环上氢化)的方法。更具体而言，本发明提供一种通过将芳香族乙烯基化合物系聚合物的芳香环氢化(环上氢化)来制造氢化聚合物的方法，其特征在于，在使用前将氢化催化剂还原。

公开(公告)号：CN119137164A

公开(公告)日：2024-12-13

申请号：CN202380028221.7

申请日：2023-04-10

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 佐藤英之 ,  荒井启克 ,  中村裕介 ,  松下海琉 ,  加藤宣之

IPC: C08F8/04 ,  C08F212/00 ,  G02B1/04

Abstract: 本发明涉及一种能够以高芳香核氢化率得到具有足够的耐热性的光学材料的光学材料的制造方法，其通过将芳香族乙烯基化合物系聚合物的芳香环氢化(芳香核氢化)实现光学材料的制造。更具体而言，本发明涉及一种通过将芳香族乙烯基化合物系聚合物的芳香环氢化(芳香核氢化)来进行的光学材料的制造方法，其特征在于，使用了包含至少一种第一溶剂和至少一种第二溶剂的混合溶剂。

公开(公告)号：CN118829664A

公开(公告)日：2024-10-22

申请号：CN202380025249.5

申请日：2023-04-10

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 佐藤英之 ,  荒井启克 ,  中村裕介 ,  松下海瑠 ,  加藤宣之

IPC: C08F8/04 ,  C08F12/08

Abstract: 本发明涉及使用了能够很好地溶解氢化前后的聚合物的溶剂的氢化方法。根据本发明，提供一种氢化聚合物的制造方法，通过将芳香族乙烯基化合物系聚合物的芳香环氢化来制造氢化聚合物，该制造方法包括使用芳香族乙烯基化合物系聚合物、溶剂和氢化催化剂进行氢化反应的步骤，溶剂为包含至少一种的第一溶剂和至少一种的第二溶剂的混合溶剂，混合溶剂的汉森溶解度参数(HSP)值1)落入氢化前的上述芳香族乙烯基化合物系聚合物的由δd轴、δp轴和δh轴构成的三维空间上的汉森球中，并且2)落入氢化后的上述芳香族乙烯基化合物系聚合物的由δd轴、δp轴和δh轴构成的三维空间上的汉森球中。