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发明公开
光学材料的制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN119137164A

公开(公告)日：2024-12-13

申请号：CN202380028221.7

申请日：2023-04-10

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 佐藤英之 , 荒井启克 , 中村裕介 , 松下海琉 , 加藤宣之

IPC: C08F8/04 , C08F212/00 , G02B1/04

Abstract: 本发明涉及一种能够以高芳香核氢化率得到具有足够的耐热性的光学材料的光学材料的制造方法，其通过将芳香族乙烯基化合物系聚合物的芳香环氢化(芳香核氢化)实现光学材料的制造。更具体而言，本发明涉及一种通过将芳香族乙烯基化合物系聚合物的芳香环氢化(芳香核氢化)来进行的光学材料的制造方法，其特征在于，使用了包含至少一种第一溶剂和至少一种第二溶剂的混合溶剂。

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