公开(公告)号：CN101421184A

公开(公告)日：2009-04-29

申请号：CN200780013095.9

申请日：2007-05-07

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： H·堺谷 ,  井浦克弘 ,  萩原猪佐夫 ,  松井勉 ,  北田大介

IPC: C01B15/023 ,  B01J21/04

CPC classification number: C01B15/023 ,  B01J21/04 ,  B01J21/12

Abstract: 本发明提供一种过氧化氢的制造方法，该方法包括：过氧化氢制造工序，其是通过对含有有机溶剂、具有烷基取代基的蒽醌以及具有烷基取代基的四氢化蒽醌的工作溶液进行还原后加以氧化，从而制造过氧化氢；工作溶液再生工序，其是将伴随着所述过氧化氢的制造而副生的惰性物质从所述工作溶液中去除，并将去除了该惰性物质的工作溶液再循环至过氧化氢制造工序，其特征在于，所述工作溶液再生工序包括：i)第一蒸馏工序，其是在大气压或其以下的压力下，通过蒸馏对上述有机溶剂进行回收；ii)第二蒸馏工序，其是在第一蒸馏工序后，接着在更低的压力下，通过200℃以上、滞留时间为1小时以上的蒸馏，对上述蒽醌及四氢化蒽醌进行回收。

公开(公告)号：CN101421184B

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：CN200780013095.9

申请日：2007-05-07

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： H·堺谷 ,  井浦克弘 ,  萩原猪佐夫 ,  松井勉 ,  北田大介

IPC: C01B15/023 ,  B01J21/04

CPC classification number: C01B15/023 ,  B01J21/04 ,  B01J21/12

Abstract: 本发明提供一种过氧化氢的制造方法，该方法包括：过氧化氢制造工序，其是通过对含有有机溶剂、具有烷基取代基的蒽醌以及具有烷基取代基的四氢化蒽醌的工作溶液进行还原后加以氧化，从而制造过氧化氢；工作溶液再生工序，其是将伴随着所述过氧化氢的制造而副生的惰性物质从所述工作溶液中去除，并将去除了该惰性物质的工作溶液再循环至过氧化氢制造工序，其特征在于，所述工作溶液再生工序包括：i)第一蒸馏工序，其是在大气压或其以下的压力下，通过蒸馏对上述有机溶剂进行回收；ii)第二蒸馏工序，其是在第一蒸馏工序后，接着在更低的压力下，通过200℃以上、滞留时间为1小时以上的蒸馏，对上述蒽醌及四氢化蒽醌进行回收。