公开(公告)号：CN101104510A

公开(公告)日：2008-01-16

申请号：CN200710129174.8

申请日：2007-07-13

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： H·堺谷 ,  井浦克弘 ,  萩原猪佐夫 ,  长谷川浩 ,  松田久

IPC: C01B15/023

CPC classification number: C01B15/023

Abstract: 本发明提供在通过蒽醌法的过氧化氢制造中杂质含量少的过氧化氢的制造方法。过氧化氢的制造方法，其特征是作为工作溶液中的蒽醌类，使用具有烷基取代基的蒽醌和具有烷基取代基的四氢化蒽醌的摩尔比为2∶1～8∶1的混合物，在还原工序中对该工作溶液中的该四氢化蒽醌的全部以及该蒽醌的一部分或全部进行还原，在还原工序之后，具有使氧化工序之前工作溶液中具有烷基取代基的蒽氢醌含量保持在多于具有烷基取代基的四氢化蒽氢醌含量的工序，作为前述工作溶液中的蒽醌类，使用乙基蒽醌和乙基四氢化蒽醌，并且二者的总计比率为前述工作溶液中所有蒽醌类的10～45摩尔％。

公开(公告)号：CN101421184A

公开(公告)日：2009-04-29

申请号：CN200780013095.9

申请日：2007-05-07

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： H·堺谷 ,  井浦克弘 ,  萩原猪佐夫 ,  松井勉 ,  北田大介

IPC: C01B15/023 ,  B01J21/04

CPC classification number: C01B15/023 ,  B01J21/04 ,  B01J21/12

Abstract: 本发明提供一种过氧化氢的制造方法，该方法包括：过氧化氢制造工序，其是通过对含有有机溶剂、具有烷基取代基的蒽醌以及具有烷基取代基的四氢化蒽醌的工作溶液进行还原后加以氧化，从而制造过氧化氢；工作溶液再生工序，其是将伴随着所述过氧化氢的制造而副生的惰性物质从所述工作溶液中去除，并将去除了该惰性物质的工作溶液再循环至过氧化氢制造工序，其特征在于，所述工作溶液再生工序包括：i)第一蒸馏工序，其是在大气压或其以下的压力下，通过蒸馏对上述有机溶剂进行回收；ii)第二蒸馏工序，其是在第一蒸馏工序后，接着在更低的压力下，通过200℃以上、滞留时间为1小时以上的蒸馏，对上述蒽醌及四氢化蒽醌进行回收。

公开(公告)号：CN101421184B

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：CN200780013095.9

申请日：2007-05-07

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： H·堺谷 ,  井浦克弘 ,  萩原猪佐夫 ,  松井勉 ,  北田大介

IPC: C01B15/023 ,  B01J21/04

CPC classification number: C01B15/023 ,  B01J21/04 ,  B01J21/12

Abstract: 本发明提供一种过氧化氢的制造方法，该方法包括：过氧化氢制造工序，其是通过对含有有机溶剂、具有烷基取代基的蒽醌以及具有烷基取代基的四氢化蒽醌的工作溶液进行还原后加以氧化，从而制造过氧化氢；工作溶液再生工序，其是将伴随着所述过氧化氢的制造而副生的惰性物质从所述工作溶液中去除，并将去除了该惰性物质的工作溶液再循环至过氧化氢制造工序，其特征在于，所述工作溶液再生工序包括：i)第一蒸馏工序，其是在大气压或其以下的压力下，通过蒸馏对上述有机溶剂进行回收；ii)第二蒸馏工序，其是在第一蒸馏工序后，接着在更低的压力下，通过200℃以上、滞留时间为1小时以上的蒸馏，对上述蒽醌及四氢化蒽醌进行回收。