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公开(公告)号:CN101104510A
公开(公告)日:2008-01-16
申请号:CN200710129174.8
申请日:2007-07-13
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C01B15/023
CPC classification number: C01B15/023
Abstract: 本发明提供在通过蒽醌法的过氧化氢制造中杂质含量少的过氧化氢的制造方法。过氧化氢的制造方法,其特征是作为工作溶液中的蒽醌类,使用具有烷基取代基的蒽醌和具有烷基取代基的四氢化蒽醌的摩尔比为2∶1~8∶1的混合物,在还原工序中对该工作溶液中的该四氢化蒽醌的全部以及该蒽醌的一部分或全部进行还原,在还原工序之后,具有使氧化工序之前工作溶液中具有烷基取代基的蒽氢醌含量保持在多于具有烷基取代基的四氢化蒽氢醌含量的工序,作为前述工作溶液中的蒽醌类,使用乙基蒽醌和乙基四氢化蒽醌,并且二者的总计比率为前述工作溶液中所有蒽醌类的10~45摩尔%。