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公开(公告)号：CN105916554A
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201480072776.2
申请日：2014-01-10
申请人： 三菱电机株式会社
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1043 , A61N5/1044 , A61N5/1071 , A61N2005/1087
摘要： 本发明提供一种粒子射线照射装置，其对扫描装置实施如下控制，即将对照射对象的所有照射位置照射粒子射线的照射重复重新扫描次数，对各照射位置照射重新扫描次数的粒子射线，该粒子射线照射装置具备运算部，该运算部被输入重新扫描次数(n)和粒子射线的单位时间的剂量即射束强度(J)中的一方，求出对于所有照射位置满足下述条件(P1)的另一方的值中的最大值，并提示给用户。J*ti
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公开(公告)号：CN104010694B
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201280064257.2
申请日：2012-03-27
申请人： 三菱电机株式会社
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1048 , A61N5/1043 , A61N5/1077 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087 , H05H13/04 , H05H2277/11
摘要： 控制部(20)中设置有：运转模式保持部(25)，该运转模式保持部(25)中，作为加速器(10)周期反复的运转模式，保持有多个运转模式(OP-S,OP-L)，该多个运转模式(OP-S,OP-L)中，能够射出粒子射线(B)的时间(To)不同，且分别对操作条件进行了调整，以使得即使在存在磁滞的情况下，也能够使加速器(10)的偏转电磁铁(13)产生所希望的磁场强度；照射条件读取部(22)，该照射条件读取部(22)对于在深度方向分割照射对象后得到的多个切片，读取每个切片的照射条件；运转模式选择部(23)，该运转模式选择部(23)根据所读取出的照射条件，从多个运转模式中选择与该切片相适应的运转模式；以及主控制部(21)，该主控制部(21)对于每个切片，根据选择的运转模式来控制加速器(10)，并且根据照射条件来控制照射装置(40)。
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公开(公告)号：CN102740929B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201080062466.4
申请日：2010-01-28
申请人： 三菱电机株式会社
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1042 , A61N5/1043 , A61N5/1048 , A61N2005/1087
摘要： 本发明的目的在于获得可降低扫描电磁铁的磁滞影响且可实现高精度射束照射的粒子射线治疗装置。其包括：照射管理装置（32），该照射管理装置（32）基于带电粒子束（1ｂ）的目标照射位置坐标（Ｐｉ）来控制扫描电磁铁（3）；及位置监视器（7），该位置监视器（7）测定带电粒子束（1ｂ）的测定位置坐标（Ｐｓ），照射管理装置（32）包括指令值生成器（25），该指令值生成器（25）基于校正数据（Ｉａ）和目标照射位置坐标（Ｐｉ）来将控制输入（Ｉｏ（Ｉｒ））输出到扫描电磁铁（3），上述校正数据（Ｉａ）是基于测定位置坐标（Ｐｓ）及目标照射位置坐标（Ｐｉ）而生成的，上述测定位置坐标（Ｐｓ）是扫描电磁铁的励磁图案与正式照射的计划相同的预备照射中，由位置监视器（7）测定的。
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公开(公告)号：CN104010694A
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201280064257.2
申请日：2012-03-27
申请人： 三菱电机株式会社
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1048 , A61N5/1043 , A61N5/1077 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087 , H05H13/04 , H05H2277/11
摘要： 控制部(20)中设置有：运转模式保持部(25)，该运转模式保持部(25)中，作为加速器(10)周期反复的运转模式，保持有多个运转模式(OP-S,OP-L)，该多个运转模式(OP-S,OP-L)中，能够射出粒子射线(B)的时间(To)不同，且分别对操作条件进行了调整，以使得即使在存在磁滞的情况下，也能够使加速器(10)的偏转电磁铁(13)产生所希望的磁场强度；照射条件读取部(22)，该照射条件读取部(22)对于在深度方向分割照射对象后得到的多个切片，读取每个切片的照射条件；运转模式选择部(23)，该运转模式选择部(23)根据所读取出的照射条件，从多个运转模式中选择与该切片相适应的运转模式；以及主控制部(21)，该主控制部(21)对于每个切片，根据选择的运转模式来控制加速器(10)，并且根据照射条件来控制照射装置(40)。
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公开(公告)号：CN102015022B
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN200880128977.4
申请日：2008-05-12
申请人： 三菱电机株式会社
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/10 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095
摘要： 在适用于粒子射线癌症治疗装置等的带电粒子束照射装置中，高精度地形成所期望的深层照射剂量分布。在使粒子射线产生装置产生的粒子射线通过用于使所述粒子射线具有所期望的能量分布的、具有周期性厚度分布的隆起滤过板照射到被照射体上的带电粒子束照射装置中，所述隆起滤过板配置有多条隆起，使这些隆起垂直于粒子射线的进入方向。
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公开(公告)号：CN103415321A
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：CN201180069037.4
申请日：2011-03-07
申请人： 三菱电机株式会社
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1077 , A61N5/1043 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087
摘要： 本发明的目的在于，能在短时间内对粒子射线治疗装置所使用的扫描电磁铁的残留磁化进行恰当的消磁，在向照射对象照射经加速器加速、并由扫描电磁铁（11）和（12）进行扫描的粒子射线（18）的粒子射线治疗装置中，对扫描电磁铁（11、12）进行励磁的电源（13）和（14）输出用于对扫描电磁铁（11）和（12）进行消磁的图案电流。图案电流由控制电路（15）进行控制，该控制电路（15）读取消磁图案（17）来控制电源（13）和（14）。
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公开(公告)号：CN102015022A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200880128977.4
申请日：2008-05-12
申请人： 三菱电机株式会社
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/10 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095
摘要： 在适用于粒子射线癌症治疗装置等的带电粒子束照射装置中，高精度地形成所期望的深层照射剂量分布。在使粒子射线产生装置产生的粒子射线通过用于使所述粒子射线具有所期望的能量分布的、具有周期性厚度分布的隆起滤过板照射到被照射体上的带电粒子束照射装置中，所述隆起滤过板配置有多条隆起，使这些隆起垂直于粒子射线的进入方向。
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公开(公告)号：CN1284188C
公开(公告)日：2006-11-08
申请号：CN200410035146.6
申请日：2004-04-23
申请人： 三菱电机株式会社
发明人： 原田久
CPC分类号： G21K1/046 , A61N5/1045
摘要： 一种放射线照射装置，包括：进行多次的放射线波束照射的波束遮断装置；为了在包含由多次的放射线波束的照射所形成的重叠区域在内的多个照射区域中能照射到被照射部位整个面的位置控制装置；以及使各照射区域的重叠区域中的线量分布中具有坡度、在包含由多次的放射线波束的照射所形成的重叠区域在内的被照射部位整个面上使线量分布平坦的多叶式准直仪控制装置。采用本发明，在不用强化照射范围扩大装置性能的情况下具有大的照射范围并可确保线量分布的一样性。
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公开(公告)号：CN105073191B
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201380073590.4
申请日：2013-02-22
申请人： 三菱电机株式会社
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1081 , A61N2005/1087 , H05H7/04 , H05H2007/008 , H05H2007/046 , H05H2007/048
摘要： 本发明的粒子射线治疗装置具有旋转吊架(10)，该旋转吊架(10)构成为使照射装置(4)绕着转轴(XR)的周围旋转，由此来向被照射体照射粒子射线(B)，在该旋转吊架(10)中设置有入口侧偏转电磁铁(1)，该入口侧偏转电磁铁(1)具有使沿着转轴(XR)提供来的粒子射线(B)朝径向偏转从而导入照射装置(4)的偏转路径(1c)、以及与偏转路径(1c)自由切换并使所提供的粒子射线(B)直线前进的直进路径(1s)，该粒子射线治疗装置还包括轨道修正装置(5、6)，该轨道修正装置(5、6)具有在转轴(XR)方向的两侧夹着入口侧偏转电磁铁(1)而配置的两个位置传感器(5)。
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公开(公告)号：CN105792890A
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201380081093.9
申请日：2013-11-21
申请人： 三菱电机株式会社
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1079 , A61N5/1067 , A61N5/1068 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087
摘要： 本发明的目的在于提供一种能利用分时恰好同时地向多个治疗室输送射束的粒子射线治疗装置。粒子射线治疗装置(51)的射束输送系统(59)具有变更射束路径的射束路径变更器(16)，以将带电粒子射束(81)输送到多个粒子射线照射装置(58)中的某一个，治疗管理装置(95)具有射束路径控制器(18)，该射束路径控制器(18)生成对加速器(54)的出射器(62)进行控制的出射器控制信号(csiga)、和对射束路径变更器(16)进行控制的射束路径变更器控制信号(冲击控制信号(csigb))，以使得对于在同一治疗时间段进行治疗的多个粒子射线照射装置(58)，按每一个分配时间将带电粒子射束(81)输送到多个粒子射线照射装置(58)的某一个。
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