利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

75 条记录 (耗时 0.034 秒)

    驱动式患者台
    1.
    发明授权
    驱动式患者台 有权

    公开(公告)号：CN104353195B

    公开(公告)日：2017-07-14

    申请号：CN201410578906.1

    申请日：2011-02-23

    申请人： 三菱电机株式会社

    发明人： 岩田高明

    IPC分类号： A61N5/10

    CPC分类号： G01N23/00

    摘要： 本发明的目的在于得到能够有效地进行与编制治疗计划时所制定的位置相一致的定位作业的驱动式患者台。该驱动式患者台包括：使顶板(8)相对于固定坐标系(10)朝X轴方向、Y轴方向、Z轴方向的各轴方向进行平移的平移单元(3，4，5)；使顶板(8)朝绕各轴的θ方向、φ方向、ξ方向的各方向进行旋转的旋转单元(6，7，8)；以及根据所输入的希望旋转中心点(P)来控制平移单元(3，4，5)及旋转单元(6，7，8)，控制装置具有：患者台操作终端(30)；旋转驱动信号生成单元，生成旋转驱动信号，该旋转驱动信号通过患者台操作终端(30)的操作使顶板(8)进行旋转移动；以及平移驱动信号生成单元，生成单元生成平移驱动信号，该平移驱动信号使平移单元(3，4，5)进行平移，使得因旋转移动而产生的希望旋转中心点(P)的平移移动量成为预定值以下。

    扫描电磁铁用控制装置及粒子射线治疗装置
    3.
    发明授权
    扫描电磁铁用控制装置及粒子射线治疗装置 有权

    公开(公告)号：CN104582791B

    公开(公告)日：2017-03-01

    申请号：CN201280075353.7

    申请日：2012-08-21

    申请人： 三菱电机株式会社

    发明人： 岩田高明

    IPC分类号： G21K5/04

    CPC分类号： A61N5/1067 ,  A61N5/103 ,  A61N5/1043 ,  A61N5/1048 ,  A61N5/1077 ,  A61N2005/1074 ,  A61N2005/1087

    摘要： 本发明是扫描照射用的扫描电磁铁(31)的控制所使用的控制装置(控制部(4))，包括：指令值的处理系统(存储器(42)、运算电路(43)、接口成用于驱动扫描电磁铁(31)的指令值，并与加速器(10)同步地输出所生成的指令值；以及比较部(45)，该比较部(45)对上述处理系统中的错误进行检测，对上述处理系统中的至少一部分电路(例如，运算电路(43))进行冗余化处理，在来自冗余化后得到的电路的输出不一致时，比较部(45)检测出产生了处理错误。(46))，该指令值的处理系统基于治疗计划来生

    物块、物块的制造方法、粒子射线治疗装置、及治疗计划装置
    4.
    发明授权
    物块、物块的制造方法、粒子射线治疗装置、及治疗计划装置 失效

    公开(公告)号：CN103153397B

    公开(公告)日：2015-10-07

    申请号：CN201080068437.9

    申请日：2010-11-16

    申请人： 三菱电机株式会社

    发明人： 岩田高明

    IPC分类号： A61N5/10

    CPC分类号： A61N5/10 ,  A61N2005/1087 ,  A61N2005/1096 ,  G21K1/10 ,  Y10T29/49

    摘要： 本发明的目的在于获得一种能正确地形成适合于照射对象的深度方向上的形状的照射野的物块、以及粒子射线治疗装置。通过以下方式设定物块（6）的形状：即，利用以第一轴(Asa)为中心的第一倾斜角(α)和以第二轴(Asb)为中心的第二倾斜角(β)来定义以粒子射线（B）的照射轨道(TB)，其中，所述第一轴(Asa)以第一基准点(CPa)为起点、与射束轴（XB）垂直且包括第一基准点(CPa)，所述第二轴(Asb)与射束轴（XB）和第一轴(Asa)垂直，由此在第一倾斜角(α)与第二倾斜角(β)的组合之中，在利用规定范围的组合而分别定义的照射轨道(TB)中的该物块(6)内的路径长度(LB)对从体表(fk)到被照射部(IS)的路径长度(Lｋ)进行补偿。

    粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置
    5.
    发明公开
    粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置 有权 转让

    公开(公告)号：CN103794261A

    公开(公告)日：2014-05-14

    申请号：CN201410058032.7

    申请日：2011-03-31

    申请人： 三菱电机株式会社

    发明人： 岩田高明

    IPC分类号： G21K1/02 ,  G21K1/10 ,  A61N5/10

    CPC分类号： A61N5/1081 ,  A61N5/10 ,  A61N5/1031 ,  A61N5/1044 ,  A61N5/1045 ,  A61N5/1048 ,  A61N2005/1087 ,  A61N2005/1095 ,  G21K1/043 ,  G21K1/10 ,  G21K2201/00

    摘要： 若想照原样将X射线等放射线治疗装置中的IMRT技术应用到现有的具有摆动系统的粒子射线治疗装置中，则存在必须使用多个团块的问题。本发明的目的在于解决粒子射线治疗装置中的IMRT的过量照射问题。更具体而言，通过不使用团块而提高深度方向上的照射自由度，从而解决粒子射线治疗装置中的IMRT的过量照射问题。本发明的目的在于提供一种粒子射线照射装置(58)，该粒子射线照射装置(58)包括扫描照射系统(34)，并安装于使带电粒子束(1)的照射方向旋转的旋转机架，所述扫描照射系统(34)将由加速器进行了加速的带电粒子束(1)进行扫描，粒子射线照射装置(58)包括柱状照射野生成装置(4)，该柱状照射野生成装置(4)扩大带电粒子束(1)的布喇格峰值，来生成柱状的照射野。

    粒子射线照射装置
    6.
    发明授权
    粒子射线照射装置 有权 转让

    公开(公告)号：CN102414759B

    公开(公告)日：2014-02-19

    申请号：CN200980159044.6

    申请日：2009-06-09

    申请人： 三菱电机株式会社

    发明人： 岩田高明

    IPC分类号： G21K5/04 ,  A61N5/10

    CPC分类号： G21K1/093 ,  A61N5/1031 ,  A61N5/1043 ,  A61N2005/1087

    摘要： 本发明的目的在于提供一种粒子射线照射装置，该粒子射线照射装置能够不使用IF条件句(区分情况的条件式)，就能运算控制指令值，能提高照射位置精度。包括逆映射单元，该逆映射单元具有逆映射数学模型，该逆映射数学模型基于照射对象的带电粒子束的目标照射位置坐标来生成实现该照射的扫描电磁铁的指令值，根据基于照射对象的带电粒子束的目标照射位置坐标、使用上述逆映射数学模型而生成的上述指令值，来对上述扫描电磁铁进行控制，以将带电粒子束进行扫描，来照射至照射对象。

    粒子射线照射装置、粒子射线治疗装置以及数据显示程序
    7.
    发明公开
    粒子射线照射装置、粒子射线治疗装置以及数据显示程序 有权 转让

    公开(公告)号：CN103228319A

    公开(公告)日：2013-07-31

    申请号：CN201080070331.2

    申请日：2010-12-24

    申请人： 三菱电机株式会社

    发明人： 岩田高明 ,  鉾馆俊之

    IPC分类号： A61N5/10

    CPC分类号： A61N5/1043 ,  A61N5/1075 ,  A61N2005/1074 ,  A61N2005/1087

    摘要： 本发明的目的在于得到一种粒子射线照射装置，该粒子射线照射装置能够将和带电粒子束的照射位置相关联的照射位置关联值、与照射位置关联值误差相对应地进行显示。该粒子射线照射装置包括数据处理装置（19），该数据处理装置（19）将照射位置关联值误差与实际照射位置关联值相对应地在显示部（43）上显示，该照射位置关联值误差是和带电粒子束（1）的照射位置相关联的实际照射位置关联值的、相对于和目标照射位置相关联的目标照射位置关联值的误差，数据处理装置（19）具有运算部（42），该运算部（42）在目标照射位置关联值的坐标上显示目标值显示图形（23），在将利用变形系数对照射位置关联值误差进行运算后的坐标加上目标照射位置关联值而得到的坐标、即显示坐标上显示测定值显示图形（24），并显示将测定值显示图形（24）与目标值显示图形（23）相连接的线段（25），其中，该目标值显示图形（23）表示目标照射位置关联值，该测定值显示图形（24）表示实际照射位置关联值。

    粒子射线照射装置
    8.
    发明公开
    粒子射线照射装置 失效

    公开(公告)号：CN102421481A

    公开(公告)日：2012-04-18

    申请号：CN200980159292.0

    申请日：2009-06-03

    申请人： 三菱电机株式会社

    发明人： 蒲越虎 ,  吉田克久 ,  山本雄一 ,  坂本豪信 ,  本田泰三 ,  原田久 ,  岩田高明

    IPC分类号： A61N5/10

    CPC分类号： A61N5/10 ,  A61N5/1043 ,  A61N2005/1087

    摘要： 本发明的目的在于提供一种既能抑制带电粒子束的最大可利用射程的减少、又能扩大束点的剂量分布的粒子射线照射装置。粒子射线照射装置包括粒子射线加速单元(1)、粒子射线输送单元(2)、具有带电粒子束扫描电磁铁和扫描电源(11)的扫描装置、及照射控制单元(14)，所述扫描装置包括第一扫描单元(3)和第二扫描单元(4)，该第一扫描单元(3)将带电粒子束进行扫描来形成伪扩大束点，该第二扫描单元(4)使所述伪扩大束点的位置与所述目标区域一致来进行扫描。

    激光加工用的间隙检测装置及方法、激光加工用系统
    10.
    发明授权
    激光加工用的间隙检测装置及方法、激光加工用系统 失效

    公开(公告)号：CN101089546B

    公开(公告)日：2011-04-13

    申请号：CN200610164231.1

    申请日：2006-12-05

    申请人： 三菱电机株式会社

    发明人： 岩田高明 ,  大村浩嘉 ,  今井祥人 ,  高桥悌史

    IPC分类号： G01B7/14 ,  B23K26/00 ,  B23K26/42

    CPC分类号： B23K26/04

    摘要： 本发明提供能够高精度地检测输出激光加工机中的激光的喷头与加工对象物之间的间隙的激光加工用的间隙检测装置及方法、激光加工用系统。信号处理单元(24)求间隙静电电容Cg与等离子阻抗Zp的合成阻抗Z的倒数，从该倒数的虚部求作为间隙静电电容Cg与等离子阻抗中包含的静电电容成分之和的合成静电电容，从该倒数的实部求等离子阻抗中包含的电阻成分，间隙检测装置(20)使用表现等离子阻抗的倒数的特性的模型和电阻成分求静电电容成分，从合成静电电容减去该静电电容成分求间隙静电电容Cg，间隙检测装置(20)从所求出的间隙静电电容Cg求间隙。