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公开(公告)号：CN117721417A
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202311750060.0
申请日：2023-12-18
申请人： 上海交通大学 , 哈尔滨工业大学(深圳) , 上海核工程研究设计院股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种超耐磨锆合金包壳表面复合涂层及其制备方法，属于核燃料包壳表面涂层技术领域。所述复合涂层从内至外依次包含Mo层、Cr层和CrN层；所述Mo层的组成为Mo纯金属，所述Cr层的组成为Cr纯金属；所述Mo层的厚度为0.5～3μm，所述Cr层的厚度为8～15μm，所述CrN层的厚度为1～6μm。本发明设计的超耐磨锆合金包壳表面复合涂层从内至外依次包含Mo层、Cr层和CrN层；此复合涂层与锆合金基体的结合性较好，且结构均匀致密，耐磨性与抗氧化性能优异，可显著提升燃料包壳正常服役工况性能以及抵御反应堆严重事故的能力。
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公开(公告)号：CN118600380A
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202410704817.0
申请日：2024-06-03
摘要： 本发明提供了一种介质滤波器表面金属化涂层的制备方法，包括以下步骤：沉积过程：采用高功率磁控溅射技术在介质陶瓷基体表面沉积金属层，首先，通过调节高功率磁控溅射技术的频率和脉宽将峰值电流增大，获得高密度的等离子，之后，降低介质陶瓷基体的旋转速度，在介质陶瓷基体后方增加辅助阴极，增加等离子体运动的方向性，以获得不同倾角的柱状晶。本发明的有益效果是：此方法仅需在介质陶瓷表面沉积一层Cu金属层即可，减少介质陶瓷表面金属化的制程，大大降低了生产成本，并且，不需要在制备过程中通入还原性气体，制备工艺较简单。
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公开(公告)号：CN118547257A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202410704816.6
申请日：2024-06-03
摘要： 本发明提供了一种用于尖端结构的低应力陶瓷涂层的制备方法，包括以下步骤：沉积陶瓷涂层，通过协同调控高功率脉冲磁控溅射技术的频率、脉宽和基底偏压的手段，使轰击工件基底的等离子体密度和能量呈现交替高低的趋势，进而使工件基底处陶瓷涂层的内应力呈现拉应力和压应力的交替叠加，从而释放陶瓷涂层整体的内应力的同时，保证陶瓷涂层的致密结构和力学性能。本发明的有益效果是：通过协同调控HiPIMS频率、脉宽和基底偏压的手段，使轰击刀具刃口的等离子体密度和能量呈现交替高低的趋势，进而使使刃口处陶瓷涂层的内应力呈现拉应力和压应力的交替叠加效果，从而释放陶瓷涂层整体的内应力的同时，保证涂层的致密结构和力学性能。
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公开(公告)号：CN116426887A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202310270697.3
申请日：2023-03-15
申请人： 哈尔滨工业大学(深圳)
摘要： 本发明提供了一种基于脉冲磁控溅射的氮化铬多层纳米涂层及其制备方法，所述氮化铬多层纳米涂层从下到上依次包括铬层、多层结构涂层和氮化铬层，所述多层结构涂层为Cr2N相层、CrN相层多层循环交替层，该涂层采用HiPIMS技术，通过改变占空比和脉冲结构等放电模式的调控手段，调控等离子体离化率和沉积速率以及成膜的化学计量比的方法得到。本发明技术方案得到的涂层具有高硬度、高韧性、良好的耐腐蚀性以及耐氧化性；将该多层涂层应用于刀具上，有助于提高刀具的硬度、耐腐蚀性和抗高温氧化性能，且具有具备较好的耐冲击性能，可大幅度提高基体的耐磨损性能。
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公开(公告)号：CN116377389A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310328380.0
申请日：2023-03-30
申请人： 哈尔滨工业大学(深圳)
摘要： 本发明提供了一种铬铝基复合多层涂层及其制备方法和应用，该制备方法包括：将表面洁净的基体置于氩气环境中，开启CrAl靶，对基体的表面进行活化处理；将基体置于氩气和氮气环境中，开启CrAl靶，采用PVD技术在刀具基体表面沉积铬铝化氮层；保持步骤S2的CrAl靶和参数设置不变，并保持氩气通入的情况下停止氮气通入，并开始通入氧气，沉积氧化铬铝层；重复前面的步骤，交替沉积铬铝化氮层和氧化铬铝层，得到复合多层涂层；在复合多层涂层的表面沉积表面阻隔层。本发明的技术方案得到的铬铝基复合多层涂层具有高硬度、高韧性、良好的耐腐蚀性以及耐高温氧化的性能，具有很强的耐冲击和磨损的能力。此外，制备方法简单，容易控制。
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