防止聚酰亚胺涂层剥离的绝缘栅双极晶体管背面处理方法

    公开(公告)号:CN104851798A

    公开(公告)日:2015-08-19

    申请号:CN201510144917.3

    申请日:2015-03-31

    申请人: 上海大学

    IPC分类号: H01L21/331 H01L21/56

    摘要: 本发明涉及一种解决聚酰亚胺(Polyimide)剥离以改善高压大功率绝缘栅双极晶体管(IGBT)而在其背面进行炉管退火的工艺方法, IGBT的Polyimide工艺通常包括:Polyimide有机物通过旋转涂覆在正面再经光刻把窗口打开。接着进行背面工艺:硅片减薄与表面处理、背面离子注入、离子退火、背面蒸金与退火等工艺。本发明主要针对IGBT背面工艺离子注入退火、背面金属退火工艺中提出了炉管温度分多段升降温,提高炉管真空,在正式生产片周围合理放置一定数量陪片的工艺,能解决Polyimide脱落的问题,在高压大功率IGBT等功率器件工艺中,具有十分重要的意义。

    防止聚酰亚胺涂层剥离的绝缘栅双极晶体管背面处理方法

    公开(公告)号:CN104851798B

    公开(公告)日:2017-12-22

    申请号:CN201510144917.3

    申请日:2015-03-31

    申请人: 上海大学

    IPC分类号: H01L21/331 H01L21/56

    摘要: 本发明涉及一种解决聚酰亚胺(Polyimide)剥离以改善高压大功率绝缘栅双极晶体管(IGBT)而在其背面进行炉管退火的工艺方法,IGBT的Polyimide工艺通常包括:Polyimide有机物通过旋转涂覆在正面再经光刻把窗口打开。接着进行背面工艺:硅片减薄与表面处理、背面离子注入、离子退火、背面蒸金与退火等工艺。本发明主要针对IGBT背面工艺离子注入退火、背面金属退火工艺中提出了炉管温度分多段升降温,提高炉管真空,在正式生产片周围合理放置一定数量陪片的工艺,能解决Polyimide脱落的问题,在高压大功率IGBT等功率器件工艺中,具有十分重要的意义。