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公开(公告)号:CN103746037B
公开(公告)日:2016-03-30
申请号:CN201410001041.2
申请日:2014-01-02
Applicant: 上海大学
IPC: H01L31/18
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本发明涉及的是一种硅基ZnS薄膜紫外可见光光电探测器的制造方法,属于无机非金属材料器件制造工艺领域。本发明是采用磁控溅射法,在p型Si衬底上制备n型ZnS薄膜,形成ZnS薄膜/Si pn结结构紫外可见光探测器,为制作高性能的紫外可见光探测器提供了新的方法。本发明是一种基于硅衬底的pn结ZnS薄膜紫外光探测器,其特点在于,采用磁控溅射法在Si片上制备颗粒尺寸均匀、质量高的ZnS薄膜样品,所制成的pn结型探测器具有高的灵敏度,且可同时探测紫外光和可见光。
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公开(公告)号:CN103952675A
公开(公告)日:2014-07-30
申请号:CN201410173480.1
申请日:2014-04-28
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明为一种光伏材料硫化亚铜(Cu2S)薄膜的制备方法,公开了一种应用于光伏产业的硫化亚铜薄膜的制备技术。所述制备方法是基于直流磁控溅射技术。该工艺以高纯度硫化亚铜为溅射靶材,使用氩气作为工作气体。该方法具有沉积速率高、膜厚可控、重复性好等特点,可以制备大面积、均匀、高质量的硫化亚铜薄膜,有望实现硫化亚铜薄膜的产业化生产。
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公开(公告)号:CN103746037A
公开(公告)日:2014-04-23
申请号:CN201410001041.2
申请日:2014-01-02
Applicant: 上海大学
IPC: H01L31/18
CPC classification number: Y02P70/521 , H01L31/109 , H01L31/0336 , H01L31/18
Abstract: 本发明涉及的是一种硅基ZnS薄膜紫外可见光光电探测器的制造方法,属于无机非金属材料器件制造工艺领域。本发明是采用磁控溅射法,在p型Si衬底上制备n型ZnS薄膜,形成ZnS薄膜/Sipn结结构紫外可见光探测器,为制作高性能的紫外可见光探测器提供了新的方法。本发明是一种基于硅衬底的pn结ZnS薄膜紫外光探测器,其特点在于,采用磁控溅射法在Si片上制备颗粒尺寸均匀、质量高的ZnS薄膜样品,所制成的pn结型探测器具有高的灵敏度,且可同时探测紫外光和可见光。
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