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公开(公告)号:CN114972185A
公开(公告)日:2022-08-30
申请号:CN202210408314.X
申请日:2022-04-19
申请人: 上海大学
IPC分类号: G06T7/00 , G06T5/00 , G06V10/762 , G01N23/207
摘要: 本发明公开了一种基于统计建模的多晶粉末X光衍射图谱的全谱线拟合方法:粉末X光衍射图期望最大化算法全谱线拟合方法(Whole Pattern Fitting of Powder XRD byExpectation Maximum algorithm,简称WPEM)。可用于多晶粉末X光衍射图的全谱拟合,从中提取各衍射峰的峰位、峰宽、峰形、积分衍射强度等晶体结构信息。实现了“统计背底计算”、“组分晶格常数的精确测定”、“组分体积分数的定量测定”等功能。本发明技术能够减少或者消除由衍射几何因素形成的不对称峰形的噪声,可以对混合多晶系的X光衍射图进行全谱线分解和拟合,精确和定量测定各个晶系晶格常数、峰形及各个晶系体积分数。与主流的商用拟合软件Fullprof,TOPAS等相比,显示出更优越的拟合精度。
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公开(公告)号:CN114134478A
公开(公告)日:2022-03-04
申请号:CN202111418416.1
申请日:2021-11-26
申请人: 上海大学
摘要: 本发明涉及一种快速冷却的镀膜样品台装置及其应用,属于真空镀膜设备领域,包括冷却台、样品台及升降部、传动部;冷却台下方设置有样品挡板,样品挡板通过相应连接件与冷却台在竖直方向上相对固定连接;冷却台内设置有冷却介质容纳腔,并由一传输管通至冷却介质容纳腔内,传输管与冷却台固定连接,且传输管向外延伸连通至外部冷源;冷却台的底端位于冷却介质容纳腔的下方开有一开口朝下的样品槽,样品槽内设置有样品台,样品台以能够沿水平方向滑动的方式设置于样品槽内,样品台的下端面作为用于固定样品的工作面;本发明能够在小于1.2个小时内温度下降并稳定至负160℃,且降温后的衬底温度均匀性佳,镀膜效果好。
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