公开(公告)号：CN104217916A

公开(公告)日：2014-12-17

申请号：CN201410412719.6

申请日：2014-08-20

申请人： 上海天马有机发光显示技术有限公司 ,  天马微电子股份有限公司

发明人： 庹文平 ,  左志刚

IPC分类号： H01J37/32 ,  H01L21/67

摘要： 本发明公开了一种刻蚀装置、刻蚀系统及刻蚀终点探测方法，用以解决现有技术中存在刻蚀装置稼动率低以及刻蚀终点检测不准确的问题。方法为，在刻蚀装置的终点探测窗口中添加终点探测窗口保护结构以及终点探测窗口保护结构驱动装置，当刻蚀装置中进行的刻蚀过程的刻蚀终点到达时，通过终点探测窗口保护结构驱动装置驱动终点探测窗口保护结构遮挡探测窗，从而保护了探测窗不受过刻过程中刻蚀气体的腐蚀，延长了探测窗的使用寿命，保证了终点检测的准确性，提高了刻蚀装置的稼动率。

公开(公告)号：CN104217916B

公开(公告)日：2017-07-28

申请号：CN201410412719.6

申请日：2014-08-20

申请人： 上海天马有机发光显示技术有限公司 ,  天马微电子股份有限公司

发明人： 庹文平 ,  左志刚

IPC分类号： H01J37/32 ,  H01L21/67

摘要： 本发明公开了一种刻蚀装置、刻蚀系统及刻蚀终点探测方法，用以解决现有技术中存在刻蚀装置稼动率低以及刻蚀终点检测不准确的问题。方法为，在刻蚀装置的终点探测窗口中添加终点探测窗口保护结构以及终点探测窗口保护结构驱动装置，当刻蚀装置中进行的刻蚀过程的刻蚀终点到达时，通过终点探测窗口保护结构驱动装置驱动终点探测窗口保护结构遮挡探测窗，从而保护了探测窗不受过刻过程中刻蚀气体的腐蚀，延长了探测窗的使用寿命，保证了终点检测的准确性，提高了刻蚀装置的稼动率。