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公开(公告)号：CN110824850A
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：CN201810908756.4
申请日：2018-08-10
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
发明人： 刘屈武
摘要： 本发明公开了一种硅片交接机械手、硅片交接装置及光刻机，该硅片交接机械手包括气浮吸附组件和电机，电机包括底座、线圈骨架和两个磁铁组件，线圈骨架上缠绕有线圈，线圈骨架套接于底座内侧；两个磁铁组件间隔设置在线圈骨架下方，磁铁组件呈U型，U型的槽与线圈骨架相对设置；气浮吸附组件包括轴套、轴座、气浮轴和吸附杆，轴套与线圈骨架连接，轴座与两个磁铁组件连接，气浮轴一端与轴座连接，另一端穿过两个磁铁组件之间的间隙和线圈骨架伸入轴套内，吸附杆与轴套套接并与气浮轴连接。上述硅片交接机械手能够提高光刻机的产率及曝光精度。本发明还提出一种具有该硅片交接机械手的硅片交接装置。
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公开(公告)号：CN109856916B
公开(公告)日：2021-01-29
申请号：CN201711244615.9
申请日：2017-11-30
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供了一种防撞装置、工件台及曝光装置，所述防撞装置安装在工件台的边缘，可以节省工件台内部的大量空间；所述滚轮套接在所述转轴组件外，所述滚轮能够相对所述工件台转动，当工件台失控时，由于防撞装置安装在工件台的边缘，保证了发生碰撞的部件始终是防撞装置，防撞装置中的滚轮可以转动，以吸收碰撞能量，避免损伤工件台内的精密部件，并且所述防撞装置占用空间小、重量轻，也可实现对任意方向碰撞的防撞。
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公开(公告)号：CN114114845B
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202010899824.2
申请日：2020-08-31
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
摘要： 本发明提供一种基片交接单元及基片交接装置，基片交接单元包括定子及动子；所述定子包括线圈以及沿轴向设置的内腔，所述线圈围绕所述内腔周向设置；所述动子包括磁体及气浮轴承，所述磁体沿所述定子的轴向可活动地设置于所述内腔中；所述磁体用于在所述线圈的驱动下沿所述定子的轴向移动；所述磁体通过所述气浮轴承气浮连接于所述内腔中；所述气浮轴承至少包括上气浮面与下气浮面，所述上气浮面与所述下气浮面沿所述定子的轴向间隔分布，且所述上气浮面的延伸方向与所述下气浮面的延伸方向相同。如此配置，每个基片交接单元均独立包括定子和动子，能够各自独立地调整，减小集成的难度。气浮轴承的设置进一步提高基片交接单元的稳定性和可靠性。
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公开(公告)号：CN110824850B
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN201810908756.4
申请日：2018-08-10
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
发明人： 刘屈武
摘要： 本发明公开了一种硅片交接机械手、硅片交接装置及光刻机，该硅片交接机械手包括气浮吸附组件和电机，电机包括底座、线圈骨架和两个磁铁组件，线圈骨架上缠绕有线圈，线圈骨架套接于底座内侧；两个磁铁组件间隔设置在线圈骨架下方，磁铁组件呈U型，U型的槽与线圈骨架相对设置；气浮吸附组件包括轴套、轴座、气浮轴和吸附杆，轴套与线圈骨架连接，轴座与两个磁铁组件连接，气浮轴一端与轴座连接，另一端穿过两个磁铁组件之间的间隙和线圈骨架伸入轴套内，吸附杆与轴套套接并与气浮轴连接。上述硅片交接机械手能够提高光刻机的产率及曝光精度。本发明还提出一种具有该硅片交接机械手的硅片交接装置。
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公开(公告)号：CN106647175B
公开(公告)日：2018-08-14
申请号：CN201510731086.X
申请日：2015-10-30
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司 , 上海微高精密机械工程有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种运动体的测量和初始化装置，用于测量运动体在X、Y及Rz方向的位移以及对运动体进行初始化复位，包括三组二维测量机构、设于每组二维测量机构上的解耦机构、以及四组初始复位机构，其中两组二维测量机构位于运动体的X方向上，另外一组二维测量机构位于运动体的Y方向上，每组二维测量机构包括与运动体连接的两个相互垂直的移动副以及一个转动副；解耦机构与转动副和其中一个移动副连接；两组初始复位机构位于运动体的X方向上，另外两组初始复位机构位于运动体的Y方向上。本发明既能实现运动体Rx、Ry及Z方向的解耦，又能实现运动体初始化复位，有效提高了测量的精度和测量装置的稳定性以及工作效率。
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公开(公告)号：CN113311666B
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202010125465.5
申请日：2020-02-27
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供了一种可移动刀口模块及可变狭缝系统，其应用于光刻工艺，所述可移动刀口模块包括第一定子单元、第一动子单元以及刀口组件，所述第一动子单元包括第一动子磁钢，所述刀口组件与所述第一动子磁钢连接；所述刀口组件被配置为，在所述第一定子单元和所述第一动子单元的驱动下，沿所述第一方向移动。如此配置，使得可移动刀口模块中运动线缆少，运动阻力小，动子质量轻，电机出力大，运动精度高，电机寿命长；装置结构紧凑，安装空间小，占用空间小，方便安装和拆卸；能够保证可变狭缝的运动与掩膜台的运动相匹配，保证曝光过程的顺利进行，实现了可变狭缝的高速和高加速运动。
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公开(公告)号：CN112415856B
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN201910785428.4
申请日：2019-08-23
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供了一种柔性吸附装置及光刻设备，包括移动模块及设置于移动模块相对的两端的两个柔性支撑件，所述柔性支撑件内设置有一真空吸附腔，以实现对被吸附件的真空吸附，所述柔性支撑件的刚度小于所述被吸附件的刚度，以使吸附所述被吸附件时，形变发生在所述柔性支撑件上，使得所述被吸附件的形变量和扭曲度更小，并且，所述柔性支撑件与所述移动模块之间具有一阻尼气膜，能够抑制所述被吸附件的垂向高频振动，且振动越强，抑制效果越好。
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公开(公告)号：CN114114845A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202010899824.2
申请日：2020-08-31
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
摘要： 本发明提供一种基片交接单元及基片交接装置，基片交接单元包括定子及动子；所述定子包括线圈以及沿轴向设置的内腔，所述线圈围绕所述内腔周向设置；所述动子包括磁体及气浮轴承，所述磁体沿所述定子的轴向可活动地设置于所述内腔中；所述磁体用于在所述线圈的驱动下沿所述定子的轴向移动；所述磁体通过所述气浮轴承气浮连接于所述内腔中；所述气浮轴承至少包括上气浮面与下气浮面，所述上气浮面与所述下气浮面沿所述定子的轴向间隔分布，且所述上气浮面的延伸方向与所述下气浮面的延伸方向相同。如此配置，每个基片交接单元均独立包括定子和动子，能够各自独立地调整，减小集成的难度。气浮轴承的设置进一步提高基片交接单元的稳定性和可靠性。
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公开(公告)号：CN113311666A
公开(公告)日：2021-08-27
申请号：CN202010125465.5
申请日：2020-02-27
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供了一种可移动刀口模块及可变狭缝系统，其应用于光刻工艺，所述可移动刀口模块包括第一定子单元、第一动子单元以及刀口组件，所述第一动子单元包括第一动子磁钢，所述刀口组件与所述第一动子磁钢连接；所述刀口组件被配置为，在所述第一定子单元和所述第一动子单元的驱动下，沿所述第一方向移动。如此配置，使得可移动刀口模块中运动线缆少，运动阻力小，动子质量轻，电机出力大，运动精度高，电机寿命长；装置结构紧凑，安装空间小，占用空间小，方便安装和拆卸；能够保证可变狭缝的运动与掩膜台的运动相匹配，保证曝光过程的顺利进行，实现了可变狭缝的高速和高加速运动。
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公开(公告)号：CN109799682B
公开(公告)日：2020-11-20
申请号：CN201711140379.6
申请日：2017-11-16
申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种防撞装置，包括：框架、第一缓冲结构、第二缓冲结构及连接部件，所述第一缓冲结构的一端与所述第二缓冲结构的一端通过所述连接部件呈锐角可旋转相连，所述第一缓冲结构的另一端与所述第二缓冲结构的另一端设置在所述框架上。本发明的防撞装置通过两个一端通过连接部件呈锐角可旋转相连的缓冲结构将连接部件引导施加的任意方向上的撞击力转化两个缓冲结构垂向的力，解决了传统一维的油压缓冲器或记忆合金防撞条只能防撞一个方向的碰撞的问题；防撞装置的结构布局简单，安装调试大为便捷，减轻了防撞装置自身的重量；不占用垂向空间，应用到光刻机工件台系统时节省了大量空间，方便工件台系统的后续升级改进。
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