公开(公告)号：CN116111285A

公开(公告)日：2023-05-12

申请号：CN202211582916.3

申请日：2022-12-09

Applicant: 上海恩捷新材料科技有限公司

Inventor： 庄志 ,  曹大为 ,  卞士聪 ,  程龙 ,  宁超宗 ,  薛聪聪 ,  陈永乐 ,  崔如玉 ,  程跃

IPC: H01M50/457 ,  H01M50/434 ,  H01M50/403 ,  H01M10/0525 ,  H01M50/446 ,  H01M50/44

Abstract: 本申请公开了一种隔膜及其制备方法和应用，属于电池隔膜技术领域；所述隔膜包括基膜层和陶瓷涂层；所述基膜层包括第一基膜层和第二基膜层；所述陶瓷涂层设于所述第一基膜层和第二基膜层之间，所述陶瓷涂层的成分包括粘合剂和陶瓷，所述粘合剂和所述陶瓷的质量比值小于0.08；通过将陶瓷涂层置于第一基膜层和第二基膜层之间，基膜层能够向陶瓷涂层提供支撑力来抵消一部分陶瓷的重力，可减小陶瓷对粘合剂提供的粘接力的依赖，避免了完全依靠粘接力来抵消陶瓷的重力导致需要大量粘合剂的问题，有效地减小了粘合剂的用量，进而避免粘合剂堵塞第一基膜层和第二基膜层，解决了粘合剂堵塞隔膜微孔造成电化学性能降低的问题。

公开(公告)号：CN115986307A

公开(公告)日：2023-04-18

申请号：CN202211577270.X

申请日：2022-12-05

Applicant: 上海恩捷新材料科技有限公司

Inventor： 庄志 ,  曹大为 ,  卞士聪 ,  程龙 ,  廖晨博 ,  孙敏强 ,  陈永乐 ,  贾远超 ,  程跃

IPC: H01M50/403 ,  B05C1/06 ,  B05C13/02 ,  H01M50/457 ,  H01M50/451

Abstract: 本发明系关于一种制备多层复合隔膜的系统，尤指一种可制备出多层复合膜含有两层基膜以及位于两层基膜之间的涂层，而这样结构的多层复合膜可以将涂覆材料保存于该两层基膜之间的系统。该系统包括：一放卷装置；至少三导向辊，包括一第一导向辊、一第二导向辊及一第三导向辊；至少一涂覆装置，包括一第一涂覆装置及一第二涂覆装置；至少一烘箱，系一第一烘箱；及一收卷辊。