-
公开(公告)号：CN115960350B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202111178280.1
申请日：2021-10-09
申请人： 上海邃铸科技有限公司
摘要： 本申请提供一种聚合物及其形成的树脂组合物，可以制成树脂膜，具有高附着力，尤其为无机板材，尤其是硅板、玻璃基板等。本申请所述的聚合物，优选为含有如下式(II)和/或(III)所示基团：#imgabs0#其中，R1、R2、R3分别独立地选自H、或C1‑C10的有机基团，且R1、R2、R3中至少有一个基团含有供电子基团；R4为单键、或者C1‑C10的有机基团；式(III)中，R1’为C1‑C10的有机基团，且还含有供电子基团，R4’为单键、或者C1‑C10的有机基团。同时其耐热性能良好，线性热膨胀系数(CTE)较好。
-
公开(公告)号：CN113253569B
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202110559806.4
申请日：2021-05-21
申请人： 上海邃铸科技有限公司
摘要： 本发明公开一种小分子光刻胶组合物，所述小分子光刻胶组合物包括下述组分：组分1，所述组分为式1结构，式1具体如下：#imgabs0#以及组分2，所述组分2为式2结构，式2具体如下：#imgabs1#此外，本发明还公开了一种光刻胶组合物，所述光刻胶组合物含上述的小分子组合物、光酸发生剂以及有机溶剂。此外，本发明还公开了一种在基板上形成图案的方法，所述方法包括以下步骤：步骤S1：在基板上涂布上述的光刻胶组合物的薄膜；步骤S2：将薄膜放置于掩膜及光源之下曝光后形成图案；步骤S3：在步骤S2形成图案后，使用碱性显影液进行显影操作。
-
公开(公告)号：CN115947939A
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN202111177153.X
申请日：2021-10-09
申请人： 上海邃铸科技有限公司
摘要： 本申请一种聚合物，所述聚合物含有至少一个如下式1和/或至少一个如下式2所示结构单元：通过控制聚酰亚胺薄膜中氟元素的含量，提高聚酰亚胺薄膜的透明性；通过控制硫元素的含量，控制聚酰亚胺薄膜的折射率范围；通过二酸酐残基及二胺残基结构以及含量的控制，减少聚酰亚胺分子内的电荷转移的量，进一步提高聚酰亚胺薄膜的透明性，并且提高薄膜的力学性能；因此，通过本申请的设计可以获得可见光区域透明性优异、耐热性能良好的聚酰亚胺薄膜。
-
公开(公告)号：CN113296360A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202110559802.6
申请日：2021-05-21
申请人： 上海邃铸科技有限公司
IPC分类号： G03F7/004
摘要： 本发明公开了一种用于光刻胶组合物的酸抑制剂，其酸度系数pKa值为8‑12，所述酸抑制剂的结构中含有氟原子，每摩尔酸抑制剂中含有氟原子的含量小于或等于6摩尔。此外，本发明还公开了一种制备上述的酸抑制剂的制备方法，所述制备方法包括如下步骤：步骤A：将含有羟基的单体通过聚合反应得到相应的聚合物；步骤B:将步骤A所得的聚合物通过氟化反应得到所述的酸抑制剂。另外，本发明还公开了一种光刻胶组合物。
-
公开(公告)号：CN113253569A
公开(公告)日：2021-08-13
申请号：CN202110559806.4
申请日：2021-05-21
申请人： 上海邃铸科技有限公司
摘要： 本发明公开一种小分子光刻胶组合物，所述小分子光刻胶组合物包括下述组分：组分1，所述组分为式1结构，式1具体如下：以及组分2，所述组分2为式2结构，式2具体如下：此外，本发明还公开了一种光刻胶组合物，所述光刻胶组合物含上述的小分子组合物、光酸发生剂以及有机溶剂。此外，本发明还公开了一种在基板上形成图案的方法，所述方法包括以下步骤：步骤S1：在基板上涂布上述的光刻胶组合物的薄膜；步骤S2：将薄膜放置于掩膜及光源之下曝光后形成图案；步骤S3：在步骤S2形成图案后，使用碱性显影液进行显影操作。
-
公开(公告)号：CN117964896A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202311848892.6
申请日：2023-12-29
申请人： 上海邃铸科技有限公司
摘要： 本申请公开了一种含有羟基的聚合物，所述聚合物含有A)聚酰亚胺和/或B)聚酰亚胺前体的分子链，并且还含有C)具有羟基的化合物或基团。所述C)具有羟基的化合物或基团，具有式(C)所示结构：#imgabs0#本申请聚合物中引入稠环结构、含羟基结构的单元，制得的树脂膜具有优异的耐热性，以及较低的线性热膨胀系数、优异的耐弯折性，以及较好的附着力。
-
公开(公告)号：CN115960350A
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN202111178280.1
申请日：2021-10-09
申请人： 上海邃铸科技有限公司
摘要： 本申请提供一种聚合物及其形成的树脂组合物，可以制成树脂膜，具有高附着力，尤其为无机板材，尤其是硅板、玻璃基板等。本申请所述的聚合物，优选为含有如下式(II)和/或(III)所示基团：其中，R1、R2、R3分别独立地选自H、或C1‑C10的有机基团，且R1、R2、R3中至少有一个基团含有供电子基团；R4为单键、或者C1‑C10的有机基团；式(III)中，R1’为C1‑C10的有机基团，且还含有供电子基团，R4’为单键、或者C1‑C10的有机基团。同时其耐热性能良好，线性热膨胀系数(CTE)较好。
-
公开(公告)号：CN115678005B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202110792213.2
申请日：2021-07-13
申请人： 上海邃铸科技有限公司
摘要： 本申请提供一种聚合物、含有所述聚合物的树脂组合物、树脂膜、半导体器件和发光器件，所述聚合物含有式(I)所示结构单元和式(2)所示结构单元。本申请提供的聚合物、树脂组合物，具有良好的耐药性能，用其制成树脂膜后，其线性热膨胀系数较小，可以有效抑制痕印问题的发生；还可以使制备的图形更精细化。#imgabs0#
-
公开(公告)号：CN113296360B
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202110559802.6
申请日：2021-05-21
申请人： 上海邃铸科技有限公司
IPC分类号： G03F7/004
摘要： 本发明公开了一种用于光刻胶组合物的酸抑制剂，其酸度系数pKa值为8‑12，所述酸抑制剂的结构中含有氟原子，每摩尔酸抑制剂中含有氟原子的含量小于或等于6摩尔。此外，本发明还公开了一种制备上述的酸抑制剂的制备方法，所述制备方法包括如下步骤：步骤A：将含有羟基的单体通过聚合反应得到相应的聚合物；步骤B:将步骤A所得的聚合物通过氟化反应得到所述的酸抑制剂。另外，本发明还公开了一种光刻胶组合物。
-
公开(公告)号：CN113201804B
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN202110558298.8
申请日：2021-05-21
申请人： 上海邃铸科技有限公司
IPC分类号： D01F6/78
摘要： 本发明涉及一种纤维及其制备方法。该纤维将二酐与二胺进行聚合反应，加入硅氧烷和酯化剂，将所得的成纤聚合物溶液通过溶液纺丝的方法挤出，先得到预取向初生纤维，再经过干燥和高温环化处理，得到高性能聚酰亚胺纤维。在聚酰亚胺大分子链上引入硅氧烷结构，硅氧烷结构不仅耐热性好，且具有一定的柔软性，将其键合到刚性较大的聚酰亚胺分子链时，利于大分子的排列取向；同时在聚合/纺丝工艺中引入酯化剂，改善氢键效应，提高大分子运动性能，最终可获得具有更好的机械性能优良，高温长时间使用性能好，热尺寸稳定性优良的聚酰亚胺纤维。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
23 条记录 (耗时 0.028 秒)