公开(公告)号：CN106457764B

公开(公告)日：2018-09-07

申请号：CN201580031426.6

申请日：2015-06-08

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 宫园亨树 ,  片山丰 ,  川端裕介 ,  玉木荣一郎 ,  久保田泰生

IPC: B32B9/00 ,  G01N27/30

CPC classification number: B32B9/007 ,  B32B5/16 ,  B32B7/12 ,  B32B9/045 ,  B32B27/06 ,  B32B27/14 ,  B32B27/36 ,  B32B2255/10 ,  B32B2255/26 ,  B32B2264/108 ,  B32B2307/202 ,  B32B2307/302 ,  B32B2307/7242 ,  B32B2439/00 ,  B32B2439/40 ,  B32B2457/00 ,  B32B2509/00 ,  F28F21/02 ,  G01N27/30 ,  G01N27/308

Abstract: 提供平滑性优异、此外在平面方向上为均质且具有基材密合性、即使因使用过程中的物理接触而发生表面品质降低时其物性变化也小的层叠体、以及能够以较少的步骤简便地制作的均质的层叠体的制造方法。层叠体，其具有：由聚合物材料构成的基材；以及，部分氧化薄层石墨小片层，所述部分氧化薄层石墨小片层形成于基材上且包含介由化学键与基材键合的部分氧化薄层石墨小片，并且平均厚度ta为3.0nm以上且10000nm以下。

公开(公告)号：CN106457764A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580031426.6

申请日：2015-06-08

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 宫园亨树 ,  片山丰 ,  川端裕介 ,  玉木荣一郎 ,  久保田泰生

IPC: B32B9/00 ,  G01N27/30

CPC classification number: B32B9/007 ,  B32B5/16 ,  B32B7/12 ,  B32B9/045 ,  B32B27/06 ,  B32B27/14 ,  B32B27/36 ,  B32B2255/10 ,  B32B2255/26 ,  B32B2264/108 ,  B32B2307/202 ,  B32B2307/302 ,  B32B2307/7242 ,  B32B2439/00 ,  B32B2439/40 ,  B32B2457/00 ,  B32B2509/00 ,  F28F21/02 ,  G01N27/30 ,  G01N27/308

Abstract: 提供平滑性优异、此外在平面方向上为均质且具有基材密合性、即使因使用过程中的物理接触而发生表面品质降低时其物性变化也小的层叠体、以及能够以较少的步骤简便地制作的均质的层叠体的制造方法。层叠体，其具有：由聚合物材料构成的基材；以及，部分氧化薄层石墨小片层，所述部分氧化薄层石墨小片层形成于基材上且包含介由化学键与基材键合的部分氧化薄层石墨小片，并且平均厚度ta为3.0nm以上且10000nm以下。