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公开(公告)号：CN110573334B
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN201880026540.3
申请日：2018-04-06
申请人： 东丽株式会社
摘要： 本发明提供一种膜，是至少一面的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下，并且20cm×14cm范围内的上述表面粗糙度SRa的偏差为10％以下，320nm的平行光线透射率ST320为30％以上的膜，通过该膜，在作为转印膜使用的情况下，能够均匀地转印低光泽调外观，并且即使在使用了光固化性树脂作为被转印材的情况下，也能够进行低光泽外观的转印、形状固定，具有粒子脱落、削减这样的不良状况不易发生的良好的加工工序适应性。
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公开(公告)号：CN111491771A
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN201880081983.2
申请日：2018-12-13
申请人： 东丽株式会社
摘要： 本发明的课题是提供，通过具有模具追随性、耐热性优异，并且抑制加热时产生的褶皱，在大变形后脱模性也不易变化的特性，从而可以适合用于工序用途、特别是半导体密封工序用途的脱模膜。解决手段是一种工序用脱模膜，在将利用TMA测得的、以10℃/分钟从30℃升温到200℃时的30℃～150℃中的最大尺寸变化率设为S1(％)，将提供S1的温度设为T1(℃)，且将40℃下的尺寸变化率设为S0(％)时，满足下述(I)和(II)式，25℃下的表面自由能Sa(mN/mm)、在180℃下进行了3分钟热处理后的表面自由能Sb(mN/mm)和在180℃下伸长50％后的表面自由能Sc(mN/mm)在膜的至少一面满足下述(III)和(IV)式。0≤S1≤1.5 (I);0≤|S1-S0|/(T1-40)≤0.050 (II);0≤|Sa-Sb|≤15 (III);0≤|Sa-Sc|≤15 (IV)。
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公开(公告)号：CN110997319A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201880048855.8
申请日：2018-07-10
申请人： 东丽株式会社
摘要： 本发明的目的是提供在作为用于涂布功能性材料而获得功能性材料层的薄膜(功能性膜)的工序基材使用时，能够使涂布性、加工后的剥离性、功能性膜的特性、品质良好的膜。解决手段是一种膜，其特征在于，是在至少一面具有聚合物A层的膜，在将利用AFM求出的聚合物A层的最大高度设为Rm1(nm)，将180℃加热处理5分钟后的、利用AFM求出的聚合物A层的最大高度设为Rm2(nm)时，满足下述式(I)。Rm2-Rm1＞0nm···(I)。
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公开(公告)号：CN107458037B
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201710810499.6
申请日：2012-06-19
申请人： 东丽株式会社
摘要： 本发明的课题是提供一种叠层膜，其由于表面外观、成型性、耐撕裂性优异，因此可以实施成型加工而适合用于各种成型构件，在成型装饰用途中使用。作为解决本发明课题的手段是一种叠层膜，是具有A层和B层的叠层膜，A层以环状烯烃共聚树脂(以下，称为COC)为主成分，B层以环状烯烃树脂(以下，称为COP)为主成分。
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公开(公告)号：CN107848193A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201680040931.1
申请日：2016-08-02
摘要： 本发明涉及主收缩方向的150℃热收缩率为15％以上、并且与主收缩方向正交的方向的150℃热收缩率小于15％、并且主收缩方向的90℃热收缩率为14％以下的聚酯膜，以及主收缩方向的150℃热收缩率为15％以上、并且与主收缩方向正交的方向的150℃热收缩率小于15％、并且通过温度调制DSC获得的玻璃化转变温度为100℃以上的聚酯膜。本发明能够提供在涂布工序、干燥工序等工序温度为90℃左右时不发生收缩或收缩率小、在收缩工序温度下大幅收缩的聚酯膜。
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公开(公告)号：CN107458037A
公开(公告)日：2017-12-12
申请号：CN201710810499.6
申请日：2012-06-19
申请人： 东丽株式会社
摘要： 本发明的课题是提供一种叠层膜，其由于表面外观、成型性、耐撕裂性优异，因此可以实施成型加工而适合用于各种成型构件，在成型装饰用途中使用。作为解决本发明课题的手段是一种叠层膜，是具有A层和B层的叠层膜，A层以环状烯烃共聚树脂(以下，称为COC)为主成分，B层以环状烯烃树脂(以下，称为COP)为主成分。
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公开(公告)号：CN103068891A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201180040483.2
申请日：2011-08-26
申请人： 东丽株式会社
CPC分类号： C08L23/02 , B32B1/00 , B32B27/08 , B32B27/32 , B32B27/325 , B32B2250/03 , B32B2250/242 , B32B2250/40 , B32B2255/10 , B32B2270/00 , B32B2307/51 , B32B2307/734 , B32B2307/738 , B32B2307/75 , B32B2451/00 , C08J5/18 , C08J2345/00 , C08J2365/00 , C08J2423/04 , C08J2423/10 , C08K5/098 , C08K5/134 , C09J7/29 , Y10T428/2848 , Y10T428/31913
摘要： 本发明提供一种75℃下的储能模量为1000MPa以上3000MPa以下、120℃下的储能模量为100MPa以下的成型用膜，其相对于膜整体含有50质量%以上100质量%以下的环状烯烃系树脂。通过本发明，能够提供涂布、层合、印刷、蒸镀等加工时显示优异的尺寸稳定性，适合成型转印箔用途的成型用膜。
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公开(公告)号：CN111491771B
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN201880081983.2
申请日：2018-12-13
申请人： 东丽株式会社
摘要： 本发明的课题是提供，通过具有模具追随性、耐热性优异，并且抑制加热时产生的褶皱，在大变形后脱模性也不易变化的特性，从而可以适合用于工序用途、特别是半导体密封工序用途的脱模膜。解决手段是一种工序用脱模膜，在将利用TMA测得的、以10℃/分钟从30℃升温到200℃时的30℃～150℃中的最大尺寸变化率设为S1(％)，将提供S1的温度设为T1(℃)，且将40℃下的尺寸变化率设为S0(％)时，满足下述(I)和(II)式，25℃下的表面自由能Sa(mN/mm)、在180℃下进行了3分钟热处理后的表面自由能Sb(mN/mm)和在180℃下伸长50％后的表面自由能Sc(mN/mm)在膜的至少一面满足下述(III)和(IV)式。0≤S1≤1.5 (I);0≤|S1‑S0|/(T1‑40)≤0.050 (II);0≤|Sa‑Sb|≤15 (III);0≤|Sa‑Sc|≤15 (IV)。
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公开(公告)号：CN110573334A
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201880026540.3
申请日：2018-04-06
申请人： 东丽株式会社
摘要： 本发明提供一种膜，是至少一面的表面粗糙度SRa为100nm以上且3000nm以下，并且20cm×14cm范围内的上述表面粗糙度SRa的偏差为10％以下，320nm的平行光线透射率ST320为30％以上的膜，通过该膜，在作为转印膜使用的情况下，能够均匀地转印低光泽调外观，并且即使在使用了光固化性树脂作为被转印材的情况下，也能够进行低光泽外观的转印、形状固定，具有粒子脱落、削减这样的不良状况不易发生的良好的加工工序适应性。
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