公开(公告)号：CN108693703B

公开(公告)日：2022-09-23

申请号：CN201810271129.4

申请日：2018-03-29

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 藤崎真史 ,  土屋纯一 ,  远藤浩太朗

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 一种抗蚀剂组合物，它是通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，包含对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)，所述基材成分(A)包含高分子化合物(A1)，所述高分子化合物(A1)具有以下述通式(a0‑1)表示的结构单元(a01)、以下述通式(a0‑2)表示的结构单元(a02)、以及以下述通式(a0‑3)表示且具有与结构单元(a02)不同结构的结构单元(a03)。[化1]

公开(公告)号：CN117957282A

公开(公告)日：2024-04-30

申请号：CN202280061759.3

申请日：2022-09-20

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 宫城贤 ,  太宰尚宏 ,  土屋纯一

IPC: C08L53/00 ,  B05D1/28 ,  B82B3/00 ,  C08L25/00 ,  C08L33/12 ,  H01L21/027

Abstract: 一种相分离结构形成用树脂组合物，含有：具有第1a嵌段与第1b嵌段的第1嵌段共聚物、具有第2a嵌段与第2b嵌段的第2嵌段共聚物、能够与第1a嵌段及第2a嵌段相溶的均聚物A、能够与第1b嵌段及第2b嵌段相溶的均聚物B，构成第1a嵌段及第2a嵌段的结构单元相同，构成第1b嵌段及第2b嵌段的结构单元相同，第2嵌段共聚物的数均分子量大于第1嵌段共聚物。

公开(公告)号：CN108693703A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201810271129.4

申请日：2018-03-29

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 藤崎真史 ,  土屋纯一 ,  远藤浩太朗

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 一种抗蚀剂组合物，它是通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，包含对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)，所述基材成分(A)包含高分子化合物(A1)，所述高分子化合物(A1)具有以下述通式(a0‑1)表示的结构单元(a01)、以下述通式(a0‑2)表示的结构单元(a02)、以及以下述通式(a0‑3)表示且具有与结构单元(a02)不同结构的结构单元(a03)。[化1]。