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公开(公告)号：CN118773582A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202410394106.8
申请日：2024-04-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本公开涉及一种成膜装置和成膜方法，稳定地形成锆膜。成膜装置具备：处理容器，其内部被减压；电极，其用于使该处理容器的内部的处理空间产生电场；高频电源，其向该电极供给高频电力；载置台，其配置于处理容器的内部，用于载置基板；以及成膜气体导入部，其向处理空间导入气化后的氯化锆，其中，成膜气体导入部由金属构成，成膜气体导入部接地。
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