公开(公告)号：CN101399173A

公开(公告)日：2009-04-01

申请号：CN200810161425.5

申请日：2008-09-25

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 井上久司 ,  松本俊一 ,  竹内靖

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L21/673 ,  F27D5/00

摘要： 提供一种确保处理均匀性，并相比以往增加基板保持件搭载块数的热处理方法和热处理装置。多块被处理基板(w)沿着上下方向且以规定间隔搭载到基板保持件(10)上，将该基板保持件(10)搬入热处理炉(3)内，对被处理基板进行规定热处理。上述基板保持件(10)具有2个保持件构成体(10a)、(10b)，各保持件构成体(10a)、(10b)具备：配置在同一圆周上的多根支柱(28)、设置在各支柱(28)上且支撑被处理基板(w)周边部的基板支撑部(30)。在一个保持件构成体(10a)上搭载将表面作为上表面的被处理基板，在另外一个保持件构成体(10b)上搭载将背面作为上表面的被处理基板，由此，使上下相邻的被处理基板(w)背面对背面和表面对表面交替。

公开(公告)号：CN101399173B

公开(公告)日：2011-05-18

申请号：CN200810161425.5

申请日：2008-09-25

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 井上久司 ,  松本俊一 ,  竹内靖

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L21/673 ,  F27D5/00

摘要： 提供一种确保处理均匀性，并相比以往增加基板保持件搭载块数的热处理方法和热处理装置。多块被处理基板(w)沿着上下方向且以规定间隔搭载到基板保持件(10)上，将该基板保持件(10)搬入热处理炉(3)内，对被处理基板进行规定热处理。上述基板保持件(10)具有2个保持件构成体(10a)、(10b)，各保持件构成体(10a)、(10b)具备：配置在同一圆周上的多根支柱(28)、设置在各支柱(28)上且支撑被处理基板(w)周边部的基板支撑部(30)。在一个保持件构成体(10a)上搭载将表面作为上表面的被处理基板，在另外一个保持件构成体(10b)上搭载将背面作为上表面的被处理基板，由此，使上下相邻的被处理基板(w)背面对背面和表面对表面交替。