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公开(公告)号:CN102396053A
公开(公告)日:2012-03-28
申请号:CN201080016868.0
申请日:2010-09-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/31 , C23C16/511 , H01L21/205 , H05H1/46
CPC classification number: H01J37/3222 , H01J37/32192 , H01J37/32238 , H01L21/02247 , H01L21/02252
Abstract: 本发明的等离子体处理装置具备:将由电磁波发生装置产生的电磁波导入所述处理容器内的平面天线部件;向平面天线部件供给电磁波的波导管;重叠设置在平面天线部件之上,改变从波导管供给的电磁波的波长的滞波板;和从上方覆盖滞波板和平面天线部件的罩部件,其中,滞波板由电介质构成,并且平面天线部件与罩部件之间的区域的介电常数,在与平面天线部件的上表面平行的截面中是非均匀的。
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公开(公告)号:CN118156115A
公开(公告)日:2024-06-07
申请号:CN202311614116.X
申请日:2023-11-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor: 石坪诚
Abstract: 本公开涉及一种基板处理装置、等离子体测定方法以及等离子体调节方法,根据高频电力的混合波来分析等离子体的状态。基板处理装置具备:气体供给机构,向处理容器的处理空间供给处理气体;金属制的喷淋头,将从气体供给机构供给的处理气体向处理空间放出;金属制的载置台,在处理空间与喷淋头一同构成平行平板电极;第一高频电源,向平行平板电极中的任一方供给用于在平行平板电极间形成处理气体的等离子体的第一高频电力;第二高频电源,对等离子体供给具有与第一高频电力不同的频率的第二高频电力;以及分析部,获取伴随等离子体的形成得到的第一与第二高频电力的混合波,基于测定该混合波的功率电平而得到的结果来分析等离子体的状态。
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