稳定的表面波等离子源
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102597305A

    公开(公告)日:2012-07-18

    申请号:CN201080049912.8

    申请日:2010-08-30

    IPC分类号: C23C16/00

    摘要: 一种表面波等离子(SWP,Surface Wave Plasma)源,该SWP源包括:电磁波发射器,其被配置为通过在邻近等离子的所述电磁波发射器的等离子表面上生成表面波,来以所需的电磁波模式将电磁能量耦合于等离子,其中,所述电磁波发射器包含具有多个槽(slot)的开槽天线(slot antenna)。该SWP源进一步包括:第一凹穴结构,其在所述等离子表面被形成,其中,所述第一凹穴结构与所述多个槽中的第一排槽基本对齐;第二凹穴结构,其在所述等离子表面被形成,其中,所述第二凹穴结构与所述多个槽中的第二排槽部分对齐或不与所述多个槽中的所述第二排槽对齐。

    稳定的表面波等离子源
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102597305B

    公开(公告)日:2014-09-17

    申请号:CN201080049912.8

    申请日:2010-08-30

    IPC分类号: C23C16/00

    摘要: 一种表面波等离子(SWP,Surface Wave Plasma)源,该SWP源包括:电磁波发射器,其被配置为通过在邻近等离子的所述电磁波发射器的等离子表面上生成表面波,来以所需的电磁波模式将电磁能量耦合于等离子,其中,所述电磁波发射器包含具有多个槽(slot)的开槽天线(slot antenna)。该SWP源进一步包括:第一凹穴结构,其在所述等离子表面被形成,其中,所述第一凹穴结构与所述多个槽中的第一排槽基本对齐;第二凹穴结构,其在所述等离子表面被形成,其中,所述第二凹穴结构与所述多个槽中的第二排槽部分对齐或不与所述多个槽中的所述第二排槽对齐。