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公开(公告)号:CN1860594A
公开(公告)日:2006-11-08
申请号:CN200480028545.8
申请日:2004-09-30
申请人: 东京毅力科创株式会社 , 先进能源工业公司
IPC分类号: H01L21/3065 , H01L21/205
CPC分类号: H01J37/32174 , H01J37/321 , H01J37/32935
摘要: 本发明提供一种等离子处理系统(100),包括具有基板支架(130)和电极(125)的处理腔(120)。处理系统包括压力控制系统、气体供给系和监控装置(160)。多频RF电源(110)经由具有单一可变元件的匹配电路(115)与电极(125)连结。多频RF电源设定为第一频率将等离子点火,设定为第二频率维持等离子。
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公开(公告)号:CN100442451C
公开(公告)日:2008-12-10
申请号:CN200480028545.8
申请日:2004-09-30
申请人: 东京毅力科创株式会社
IPC分类号: H01L21/3065 , H01L21/205
CPC分类号: H01J37/32174 , H01J37/321 , H01J37/32935
摘要: 本发明提供一种等离子处理系统(100),包括具有基板支架(130)和电极(125)的处理腔(120)。处理系统包括压力控制系统、气体供给系和监控装置(160)。多频RF电源(110)经由具有单一可变元件的匹配电路(115)与电极(125)连结。多频RF电源设定为第一频率将等离子点火,设定为第二频率维持等离子。
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