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公开(公告)号：CN107338409B
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：CN201710615549.5
申请日：2017-07-26
申请人： 东北大学 , 沈阳威利德真空技术有限公司
摘要： 本发明的可调控磁场电弧离子镀技术制备氮基硬质涂层的工艺方法，包括以下步骤：基片预处理；基片超声清洗；基片表面刻蚀清洗；沉积氮基硬质涂层：对基片进行电弧离子镀膜，调节电磁场线圈的电源参数以改变电磁场的强度和方向，使弧斑在靶面上以靶材中心为圆心做稳定地缩放运动，均匀地刻蚀靶材；放气取出镀膜后的基片。本发明的工艺及方法，通过调节电磁场线圈的电源参数以改变电磁场的强度和方向，使弧斑在靶面上以靶材中心为圆心做稳定地缩放运动，均匀地刻蚀靶材。利用该方法镀制的单层氮基硬质涂层硬度高、与基体表面结合强度高、摩擦系数低、涂层表面光滑、“大颗粒”数量少且尺寸小且组织均匀致密，该镀制工艺简单易行、成本低。
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公开(公告)号：CN107338409A
公开(公告)日：2017-11-10
申请号：CN201710615549.5
申请日：2017-07-26
申请人： 东北大学 , 沈阳威利德真空技术有限公司
摘要： 本发明的可调控磁场电弧离子镀技术制备氮基硬质涂层的工艺方法，包括以下步骤：基片预处理；基片超声清洗；基片表面刻蚀清洗；沉积氮基硬质涂层：对基片进行电弧离子镀膜，调节电磁场线圈的电源参数以改变电磁场的强度和方向，使弧斑在靶面上以靶材中心为圆心做稳定地缩放运动，均匀地刻蚀靶材；放气取出镀膜后的基片。本发明的工艺及方法，通过调节电磁场线圈的电源参数以改变电磁场的强度和方向，使弧斑在靶面上以靶材中心为圆心做稳定地缩放运动，均匀地刻蚀靶材。利用该方法镀制的单层氮基硬质涂层硬度高、与基体表面结合强度高、摩擦系数低、涂层表面光滑、“大颗粒”数量少且尺寸小且组织均匀致密，该镀制工艺简单易行、成本低。
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公开(公告)号：CN109943801B
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN201910363012.3
申请日：2019-04-30
申请人： 泰安东大新材表面技术有限公司 , 东北大学
IPC分类号： C23C8/38
摘要： 本发明提供一种气体弧光放电装置、与真空腔体的耦合系统及离子渗氮工艺，利用热阴极电子发射原理与辅助阴极进行配合产生等离子体，通过该装置的磁场模块与腔体轴向磁场模块耦合进行等离子体渗氮。通过控制气体弧光放电装置与腔体轴向磁场的参数进行耦合，选取最佳磁场参数，增加真空腔体内等离子体能量及密度，获得最佳的渗氮效果。利用本发明的装置和方法，对316L奥氏体不锈钢进行60min等离子体渗氮处理，渗氮层的硬度可以达到1100HV0.05,渗氮深度可以达到50μm上，渗氮层中无氮化物析出，且渗氮层为单一的γN相，保证了渗氮工件的高硬度和高耐磨损性能。
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公开(公告)号：CN109680250A
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：CN201910075119.8
申请日：2019-01-25
申请人： 泰安东大新材表面技术有限公司 , 东北大学
IPC分类号： C23C14/32
CPC分类号： C23C14/325
摘要： 本公开提供了一种电弧离子源及电弧离子源镀膜方法，能够显著提高膜层表面质量，提高靶材利用率，消除大颗粒污染，以提高膜层制备的经济效益。该电弧离子源包括至少两个磁场产生装置、靶材和电信号输出装置，两个磁场产生装置对称设置在靶材的两侧，每个磁场产生装置包括电磁线圈和永磁体，所述电磁线圈位于所述靶材的靶面上方，所述永磁体位于所述靶材的靶面下方，所述电信号输出装置与电磁线圈连接，用于给电磁线圈施加激励电信号，电磁线圈接收到激励电信号后，与永磁体之间产生轴对称且极性相对的耦合磁场，使得靶材的靶面上各个位置的垂直磁场强度相同。
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公开(公告)号：CN107385397A
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201710605424.4
申请日：2017-07-24
申请人： 东北大学 , 沈阳添和毅科技有限责任公司
IPC分类号： C23C14/32
CPC分类号： C23C14/325
摘要： 本发明涉及一种智能电弧离子源，包括电磁线圈模块、靶材、水冷模块和永磁体模块。水冷模块包括铜阴极体、阴极体盖和通水螺纹杆，铜阴极体设有水冷通道，阴极体盖与铜阴极体固定连接，通水螺纹杆为中空的管体，其穿过阴极体盖与水冷通道相连通。阴极体盖通过连接件与电磁线圈模块连接，靶材固定在铜阴极体上，永磁体模块固定在通水螺纹杆上。本发明的电弧离子源通过水道冷却的形式代替传统的大平面冷却，解决了冷却水滞留的问题，冷却较为均匀。从中心位置开始对靶材进行冷却，能有效的扼制靶面最高温处热量的累积，降低靶面温度，解决大颗粒污染，提高膜层质量。同时采用磁场控制弧斑的方式，防止弧斑随机运动在靶面造成热量累积。
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公开(公告)号：CN100467664C
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200510047679.0
申请日：2005-11-11
申请人： 东北大学
IPC分类号： C23C16/26 , C23C16/505 , C23C16/513
摘要： 本发明提供了一种射频等离子体增强化学气相沉积方法，先在基底上沉积一层金属层，依次在金属层上沉积其氮化物层或者碳化物层，再在氮化物或者碳化物层上沉积类金刚石碳膜。本发明还提出了一种用该方法制造的带复合型包覆层的部件，部件的基材可以是金属、陶瓷、玻璃和有机树脂材料。本发明相应地提出了一种实施射频等离子体增强化学气相沉积方法的装置，该装置安装有至少一个金属溅射源，并把真空室分为等离子体生成室和等离子体处理室两个相连通的空间。在等离子体处理室内安有一对大面积的电极板，以确保镀层的均匀性和各向同性。通过调节电压、电流和真空室内Ar、N2和含碳气体组分，可沉积高附着力的类金刚石碳膜。
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公开(公告)号：CN107245700B
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201710342007.5
申请日：2017-05-16
申请人： 东北大学 , 沈阳添和毅科技有限责任公司
摘要： 本发明涉及离子镀弧斑控制装置及控制方法，控制装置包括：靶以及设置于靶前后两侧的极性相反的电磁场模块和永磁场模块，电磁场模块包括电磁线圈和控制模块，电磁线圈根据控制模块输入的控制参数的不同而改变电磁场的强度和方向。本发明的弧斑控制方法采用可编程逻辑控制器对输入到电磁线圈的扫描电压范围、扫描波形以及扫描频率进行设置，可使弧斑以靶中心为圆心做直径扩大或缩小的环形运动，可全面、均匀、精确地刻蚀靶材。通过设置极性相反的电磁场和永磁场，磁场耦合后靶面上的轴向磁场分量相互削弱，径向磁场分量相互叠加，可减小弧斑随机运动趋势，而且还会增加弧斑圆周运动的速度，使弧斑运动更加稳定，减少大颗粒的存在。
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公开(公告)号：CN109106458A
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：CN201810861752.5
申请日：2018-08-01
申请人： 东北大学 , 威海威高洁丽康生物材料有限公司
IPC分类号： A61C8/00
摘要： 本发明提供了一种牙种植体系统，包括：基台和种植体，所述基台通过内连接结构与所述种植体配合连接；所述内连接结构包括：设置在所述种植体内的第一torx配合体；设置在所述基台底部的第二torx配合体；所述第一torx配合体能够与所述第二torx配合体配合，使所述基台与所述种植体连接。本发明设计了种植体和基台的结构，保证形成紧固的连接；运用表面改性技术对种植体表界面进行处理，改善了骨结合的性能；从而提高种植体系统的寿命和可靠性。
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公开(公告)号：CN107245700A
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201710342007.5
申请日：2017-05-16
申请人： 东北大学 , 沈阳添和毅科技有限责任公司
CPC分类号： C23C14/325 , C23C14/54
摘要： 本发明涉及离子镀弧斑控制装置及控制方法，控制装置包括：靶以及设置于靶前后两侧的极性相反的电磁场模块和永磁场模块，电磁场模块包括电磁线圈和控制模块，电磁线圈根据控制模块输入的控制参数的不同而改变电磁场的强度和方向。本发明的弧斑控制方法采用可编程逻辑控制器对输入到电磁线圈的扫描电压范围、扫描波形以及扫描频率进行设置，可使弧斑以靶中心为圆心做直径扩大或缩小的环形运动，可全面、均匀、精确地刻蚀靶材。通过设置极性相反的电磁场和永磁场，磁场耦合后靶面上的轴向磁场分量相互削弱，径向磁场分量相互叠加，可减小弧斑随机运动趋势，而且还会增加弧斑圆周运动的速度，使弧斑运动更加稳定，减少大颗粒的存在。
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公开(公告)号：CN109680250B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201910075119.8
申请日：2019-01-25
申请人： 泰安东大新材表面技术有限公司 , 东北大学
IPC分类号： C23C14/32
摘要： 本公开提供了一种电弧离子源及电弧离子源镀膜方法，能够显著提高膜层表面质量，提高靶材利用率，消除大颗粒污染，以提高膜层制备的经济效益。该电弧离子源包括至少两个磁场产生装置、靶材和电信号输出装置，两个磁场产生装置对称设置在靶材的两侧，每个磁场产生装置包括电磁线圈和永磁体，所述电磁线圈位于所述靶材的靶面上方，所述永磁体位于所述靶材的靶面下方，所述电信号输出装置与电磁线圈连接，用于给电磁线圈施加激励电信号，电磁线圈接收到激励电信号后，与永磁体之间产生轴对称且极性相对的耦合磁场，使得靶材的靶面上各个位置的垂直磁场强度相同。
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