公开(公告)号：CN113330140B

公开(公告)日：2024-05-28

申请号：CN201980089119.1

申请日：2019-11-26

申请人： 东和株式会社

发明人： 竹内慎 ,  浅田武男 ,  荒木宏祐 ,  东大助 ,  岸本智子 ,  保田琢磨 ,  森山和男 ,  清水裕贵

IPC分类号： C23C14/50 ,  C23C14/06

摘要： 本发明提供一种成膜品的制造方法及溅射装置，可抑制形成于工件的薄膜的不均的产生。本发明包括：工件保持步骤，以能够以第一旋转轴(20)为中心而公转，且能够以第二旋转轴(60)为中心而自转的方式保持工件(W)，所述第二旋转轴(60)相对于靶材(6)倾斜；以及成膜步骤，一面进行以所述第一旋转轴为中心的公转及以所述第二旋转轴为中心的自转，一面利用所述靶材(6)，对所述工件(W)进行成膜。

公开(公告)号：CN113330140A

公开(公告)日：2021-08-31

申请号：CN201980089119.1

申请日：2019-11-26

申请人： 东和株式会社

发明人： 竹内慎 ,  浅田武男 ,  荒木宏祐 ,  东大助 ,  岸本智子 ,  保田琢磨 ,  森山和男 ,  清水裕贵

IPC分类号： C23C14/50 ,  C23C14/06

摘要： 本发明提供一种成膜品的制造方法，可抑制形成于工件的薄膜的不均的产生。本发明包括：工件保持步骤，以能够以第一旋转轴(旋转轴20)为中心而公转，且能够以第二旋转轴(工件保持部60)为中心而自转的方式保持工件W，所述第二旋转轴(工件保持部60)相对于靶材6(溅射靶材)倾斜；以及成膜步骤，一面进行以所述第一旋转轴为中心的公转、及以所述第二旋转轴为中心的自转，一面利用所述靶材6，对所述工件W进行成膜。