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公开(公告)号:CN103958726A
公开(公告)日:2014-07-30
申请号:CN201280056671.9
申请日:2012-09-14
Applicant: 东海橡塑工业株式会社
Inventor: 笹井建典
CPC classification number: C23C14/357 , C23C14/0042 , C23C14/0676 , C23C14/35 , H01J37/32192 , H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01J37/32678 , H01J37/32981 , H01J37/3405
Abstract: 膜构件具有由树脂膜构成的基材和配置于该基材的表背中至少一侧的氮氧化铝(AlON)膜,该氮氧化铝膜的组成为Al:39at%~55at%、O:7at%~60at%、N:1at%~50at%。膜构件阻气性优异。此外,膜构件的制造方法具有:减压工序,在溅射成膜装置(1)的腔室(8)内,以与铝制的靶材(30)相面对的方式配置基材(20),并将腔室(8)内保持在规定的真空度;以及成膜工序,向腔室(8)内导入载气和含有氮的原料气体,在规定的真空度下且在腔室(8)内的氧气压相对于氮气压的比率为20%以下的气氛中,在基材(20)的成膜面上形成氮氧化铝膜。
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公开(公告)号:CN103262663A
公开(公告)日:2013-08-21
申请号:CN201280004136.9
申请日:2012-04-25
Applicant: 东海橡塑工业株式会社 , 国立大学法人名古屋大学
CPC classification number: C23C14/357 , C23C14/086 , H01J37/3222 , H01J37/32229 , H01J37/32678 , H01J37/3405 , H05H1/46
Abstract: 微波等离子体生成装置(4)包括:矩形波导管(41),其用于传送微波;缝隙天线(42),其具有供该微波通过的缝隙(420);电介质部(43),其以覆盖缝隙(420)的方式配置,等离子体生成区域侧的表面与从缝隙(420)入射的该微波的入射方向平行。微波等离子体生成装置(4)在1Pa以下的低压条件下能够生成微波等离子体(P1)。磁控溅射成膜装置(1)包括微波等离子体生成装置(4),向基材(20)与靶材(30)之间照射微波等离子体(P1)的同时利用磁控管等离子体(P2)进行成膜。采用磁控溅射成膜装置(1),能够形成表面的凹凸较小的薄膜。
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