公开(公告)号：CN105224120B

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201410315562.5

申请日：2014-07-03

申请人： 宸鸿科技(厦门)有限公司

发明人： 许毅中 ,  徐国书 ,  李鼎祥 ,  曾国玮 ,  高常清

IPC分类号： G06F3/041

CPC分类号： C23C14/06 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/0676 ,  H01L2224/11

摘要： 本发明涉及触控技术领域,提供了种基板结构,包含基板、导电图案、第层迭结构以及钝化层。导电图案位于基板上。第层迭结构位于导电图案与基板上,其中第层迭结构包含第上薄膜、第二上薄膜和第三上薄膜,第上薄膜邻接导电图案与基板,第上薄膜、第二上薄膜和第三上薄膜依序堆栈。钝化层位于第层迭结构上,第三上薄膜邻接钝化层,其中导电图案、第上薄膜、第二上薄膜、第三上薄膜和钝化层之折射率依序递减。本发明减少导电图案与其上下层材料的折射率差异,借此改善导电图案的可视性。

公开(公告)号：CN108238726A

公开(公告)日：2018-07-03

申请号：CN201711404420.6

申请日：2017-12-22

申请人： 肖特股份有限公司

发明人： C·海茵 ,  D·阿皮茨 ,  T·达姆 ,  S·布尔坎

IPC分类号： C03C17/22 ,  C03C17/34 ,  C04B41/50 ,  C04B41/52

CPC分类号： C03C17/245 ,  C03C17/225 ,  C03C2217/732 ,  C03C2217/78 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/0676 ,  C23C14/35 ,  G02B1/115 ,  G02B1/14 ,  C03C17/22 ,  C03C17/34 ,  C04B41/009 ,  C04B41/5009 ,  C04B41/52 ,  C04B14/303

摘要： 本发明涉及一种透明的无机衬底。该衬底包含具有硬质材料涂层的抗反射涂层系统，该硬质材料涂层构成为包含铝、硅、氮和氧的无定形的透明层。硬质材料层的铝的质量分数大于硬质材料层的硅的质量分数，且硬质材料层的氮的质量分数大于氧的质量分数。此外，本发明涉及这种经涂覆的衬底的制造方法。

公开(公告)号：CN107209600A

公开(公告)日：2017-09-26

申请号：CN201580076230.9

申请日：2015-12-25

申请人： 凸版印刷株式会社

发明人： 吉成朋 ,  桥本有史

IPC分类号： G06F3/041 ,  B32B9/00 ,  B32B15/08 ,  B32B15/082 ,  B32B15/20 ,  C23C14/06

CPC分类号： C23C14/14 ,  B32B9/00 ,  B32B15/08 ,  B32B15/082 ,  B32B15/20 ,  B32B2457/208 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/024 ,  C23C14/06 ,  C23C14/0676 ,  G06F3/041 ,  G06F2203/04103

摘要： 触摸面板用导电性层叠体具备：具有1个面并且具有透光性的基材；位于基材的1个面并且具有透光性的基底层；位于基底层中与接触于基材的面成相反侧的面上的第1氧氮化铜层；位于第1氧氮化铜层中与接触于基底层的面成相反侧的面上的铜层；以及位于铜层中与接触于第1氧氮化铜层的面成相反侧的面上的第2氧氮化铜层。

公开(公告)号：CN107176831A

公开(公告)日：2017-09-19

申请号：CN201610143057.6

申请日：2016-03-11

申请人： 深圳大学

发明人： 杨海涛 ,  高玲 ,  尚福亮 ,  朱佐祥 ,  彭伟

IPC分类号： C04B35/447 ,  C04B35/628 ,  C23C14/34 ,  C23C14/08

CPC分类号： C04B35/447 ,  C04B35/62818 ,  C04B2235/3203 ,  C04B2235/3256 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/96 ,  C23C14/0676 ,  C23C14/3414

摘要： 一种MoO3‑Li3PO4包覆粉末的制备及其烧结方法。本发明属于非金属元素及其化合物。本发明公开了一种新的工艺来制备MoO3掺杂Li3PO4靶材。本发明的优点在于用一种新的掺杂工艺来代替传统的球磨掺杂，得到充分混合、均匀掺杂的粉体。适用于微量(0.1‑5at％)的MoO3粉末掺杂，可制备出致密度超过95％，强度超过50MPa，维氏硬度大于240Mpa的掺杂Li3PO4靶材，这种掺杂Li3PO4靶材，可经济、高效的制成各种复杂形状。作为微电源方面，LiMoPON薄膜具有热力学稳定性好、离子导电率高和电化学窗口宽等优点可用于制备电解质薄膜；化工上可做催化剂，用于制备烯丙醇；此外还用在气体敏感器中、特种激光玻璃、光盘、陶瓷材料等。

公开(公告)号：CN106917066A

公开(公告)日：2017-07-04

申请号：CN201710160391.7

申请日：2017-03-17

申请人： 大连理工大学

发明人： 韩克昌 ,  林国强

IPC分类号： C23C14/32 ,  C23C14/02 ,  C23C14/06

CPC分类号： C23C14/325 ,  C23C14/0021 ,  C23C14/022 ,  C23C14/0676

摘要： 本发明提供了一种四元单层超硬薄膜材料及其制备方法，属于金属材料表面改性和机械加工技术领域。一种Zr‑Al‑O‑N四元单层超硬薄膜材料和利用电弧离子镀技术在工模具材料表面制备该薄膜的方法。该材料的成分设计依据化学键合及电子能带结构理论，遵循共价性耦合能带理论来完成；该制备方法利用电弧离子镀设备并通过分离靶弧流调控及氮、氧分压调控来进行，可沉积合成原材料简单、成本低、却硬度高于40GPa的耐磨损、抗腐蚀和抗氧化性能良好的高性价比Zr‑Al‑O‑N四元单层薄膜。该方法沉积速度快、生产效率高、操作简单、利于批量生产，特别适于机械加工技术领域。

公开(公告)号：CN104812927B

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201380061000.6

申请日：2013-12-03

申请人： 三菱综合材料株式会社

发明人： 藤田利晃 ,  田中宽 ,  长友宪昭

IPC分类号： C23C14/06 ,  C23C14/34 ,  G01K7/22 ,  H01C7/04

CPC分类号： C23C14/3414 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/0676 ,  G01K7/22 ,  H01C7/006 ,  H01C7/008 ,  H01C7/041 ,  H01C7/042 ,  H01C17/12

摘要： 本发明提供一种热敏电阻用金属氮化物材料及其制造方法以及薄膜型热敏电阻传感器，该热敏电阻用金属氮化物材料能够在非烧成条件下直接成膜于薄膜等上，且具有高耐热性而可靠性较高。用于热敏电阻的金属氮化物材料，由以通式：(Ti1‑vCrv)xAly(N1‑wOw)z表示的金属氮化物构成，其中，0.0＜v＜1.0、0.70≤y/(x+y)≤0.95、0.45≤z≤0.55、0＜w≤0.35、x+y+z＝1，其结晶结构为六方晶系的纤锌矿型的单相。

公开(公告)号：CN106460151A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580028242.4

申请日：2015-03-26

申请人： 三菱日立工具技术株式会社

发明人： 府玻亮太郎 ,  久保田和幸 ,  福永有三

IPC分类号： C23C14/06 ,  C22C1/05 ,  C22C32/00 ,  C23C14/32 ,  B23B27/14

CPC分类号： C23C14/3414 ,  B23B27/14 ,  C22C1/05 ,  C22C32/00 ,  C23C14/024 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/0676 ,  C23C14/083 ,  C23C14/165 ,  C23C14/325 ,  C23C14/345 ,  C23C14/3485

摘要： 一种硬质皮膜，其具有(AlxTiyWz)aN(1-a-b)Ob(其中，x、y、z、a和b分别为以原子比计满足0.6≤x≤0.8、0.05≤y≤0.38、0.02≤z≤0.2、x+y+z＝1、0.2≤a≤0.8、和0.02≤b≤0.10的数字。)所示的组成，通过电弧离子镀法形成，通过X射线光电子能谱分析法确定的键合状态中实质上没有Al-O键而有W-O键，且X射线衍射图案具有岩盐型的单一结构。

公开(公告)号：CN106117589A

公开(公告)日：2016-11-16

申请号：CN201610613628.8

申请日：2016-07-29

申请人： 郑州航空工业管理学院

发明人： 刘战合 ,  王晓璐 ,  田秋丽 ,  代君 ,  马高山 ,  赵辉

IPC分类号： C08J7/06 ,  C23C14/35 ,  C23C14/10 ,  C23C14/08 ,  C23C14/06 ,  C23C14/20 ,  C09D5/33 ,  C09D1/00 ,  C09D5/08 ,  C09D5/10 ,  C09K3/18 ,  C08L33/12

CPC分类号： C08J7/06 ,  C08J2333/12 ,  C09D1/00 ,  C09D5/004 ,  C09D5/08 ,  C09D5/10 ,  C09K3/185 ,  C23C14/0676 ,  C23C14/08 ,  C23C14/083 ,  C23C14/086 ,  C23C14/10 ,  C23C14/20 ,  C23C14/352

摘要： 本发明公开了一种用于隐身飞机的电加热防冰防雾透明导电膜及其制备方法，本发明的一种用于隐身飞机的电加热防冰防雾透明导电膜，所述用于隐身飞机的电加热防冰防雾透明导电膜包括A面和B面，所述A面和B面上分别设置有不同的透明薄膜，A面为电加热膜系，B面为隐身功能膜系；所述电加热膜系由玻璃基底由内向外依次为电加热附着层、电加热功能层和电加热保护层；所述隐身功能膜系由玻璃基底由内向外依次为隐身附着层、隐身功能层和隐身保护层。本发明实现雷达隐身和电加热防冰防雾功能、光性能可控、雷达波反射能力，满足飞行器隐身和需求，反射回雷达的特征信号降低10dB以上，可见光透过率可提高至80％以上。

公开(公告)号：CN103958726B

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201280056671.9

申请日：2012-09-14

申请人： 住友理工株式会社

发明人： 笹井建典

IPC分类号： C23C14/06 ,  B32B9/00

CPC分类号： C23C14/357 ,  C23C14/0042 ,  C23C14/0676 ,  C23C14/35 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32678 ,  H01J37/32981 ,  H01J37/3405

摘要： 膜构件具有由树脂膜构成的基材和配置于该基材的表背中至少一侧的氮氧化铝(AlON)膜，该氮氧化铝膜的组成为Al：39at％～55at％、O：7at％～60at％、N：1at％～50at％。膜构件阻气性优异。此外，膜构件的制造方法具有：减压工序，在溅射成膜装置(1)的腔室(8)内，以与铝制的靶材(30)相面对的方式配置基材(20)，并将腔室(8)内保持在规定的真空度；以及成膜工序，向腔室(8)内导入载气和含有氮的原料气体，在规定的真空度下且在腔室(8)内的氧气压相对于氮气压的比率为20％以下的气氛中，在基材(20)的成膜面上形成氮氧化铝膜。

公开(公告)号：CN105073406A

公开(公告)日：2015-11-18

申请号：CN201480019464.5

申请日：2014-03-28

申请人： 琳得科株式会社

发明人： 铃木悠太 ,  岩屋涉 ,  永元公市 ,  近藤健

IPC分类号： B32B9/00

CPC分类号： C23C14/0676 ,  B32B7/00 ,  B32B7/02 ,  B32B7/10 ,  B32B9/00 ,  B32B9/04 ,  B32B19/00 ,  B32B19/04 ,  B32B27/00 ,  B32B27/06 ,  B32B27/14 ,  B32B27/16 ,  B32B27/18 ,  B32B27/28 ,  B32B2250/00 ,  B32B2264/00 ,  B32B2264/10 ,  B32B2264/102 ,  B32B2264/104 ,  B32B2307/546 ,  B32B2307/7242 ,  B32B2307/7244 ,  B32B2307/7246 ,  B32B2307/7248 ,  B32B2307/732 ,  B32B2457/00 ,  B32B2457/20 ,  G02F2001/133311 ,  H05K5/0017 ,  H05K5/069

摘要： 本发明为阻气性层压体、由该阻气性层压体构成的电子器件用部件和具备所述电子器件用部件的电子器件，所述层压体具有基材和阻气性单元，其特征在于，所述阻气性单元含有至少2层无机层，在所述至少2层无机层中，至少1层为氮氧化硅层；所述氮氧化硅层具有：厚度为25nm以上，随着相对于层中的厚度方向向基材侧接近，氧元素的存在率减少，氮元素的存在率增加的倾斜组成区域；所述倾斜组成区域的厚度相对于氮氧化硅层整体的厚度的比例为0.15以上。根据本发明，提供具有极高的阻气性和耐弯曲性的阻气性层压体、由该阻气性层压体构成的电子器件用部件和具备所述电子器件用部件的电子器件。