LED陶瓷支架的制备方法

    公开(公告)号:CN102709439B

    公开(公告)日:2014-11-05

    申请号:CN201210139133.8

    申请日:2012-05-08

    IPC分类号: H01L33/48 H01L33/62 H01L33/64

    摘要: 本发明公开一种LED陶瓷支架及其制备方法,包括陶瓷基板和铜线路;该陶瓷基板上设有通孔,该铜线路穿过该通孔,铜线路与陶瓷基板之间设有钛层,该钛层的厚度为0.05~0.2μm;LED陶瓷支架依次经过打孔、超声波清洗、离子源蚀刻、磁控溅镀、化学沉铜、贴干膜、曝光、显影、电镀加厚、镀锡、去干膜、去钛、铜层及去锡步骤制成;藉此,由于采用导热系数大于20W/m·K的Al2O3陶瓷作为基材,故而散热性好;由于采用超声波清洗、离子源蚀刻及磁控溅射对陶瓷基板进行处理,并配合溅镀合适厚度的钛层,因此各金属层附着力高;本发明制备方法重复性好,成本低,产品结构精细,散热性好,布线精度高,产品可直接用作精密型高功率LED芯片支架。

    LED陶瓷支架及其制备方法

    公开(公告)号:CN102709439A

    公开(公告)日:2012-10-03

    申请号:CN201210139133.8

    申请日:2012-05-08

    IPC分类号: H01L33/48 H01L33/62 H01L33/64

    摘要: 本发明公开一种LED陶瓷支架及其制备方法,包括陶瓷基板和铜线路;该陶瓷基板上设有通孔,该铜线路穿过该通孔,铜线路与陶瓷基板之间设有钛层,该钛层的厚度为0.05~0.2μm;LED陶瓷支架依次经过打孔、超声波清洗、离子源蚀刻、磁控溅镀、化学沉铜、贴干膜、曝光、显影、电镀加厚、镀锡、去干膜、去钛、铜层及去锡步骤制成;藉此,由于采用导热系数大于20W/m·K的Al2O3陶瓷作为基材,故而散热性好;由于采用超声波清洗、离子源蚀刻及磁控溅射对陶瓷基板进行处理,并配合溅镀合适厚度的钛层,因此各金属层附着力高;本发明制备方法重复性好,成本低,产品结构精细,散热性好,布线精度高,产品可直接用作精密型高功率LED芯片支架。

    LED陶瓷支架
    3.
    实用新型

    公开(公告)号:CN202662663U

    公开(公告)日:2013-01-09

    申请号:CN201220201805.9

    申请日:2012-05-08

    IPC分类号: H01L33/48 H01L33/64 H01L33/62

    摘要: 本实用新型公开一种LED陶瓷支架,包括陶瓷基板和铜线路;该陶瓷基板上设有通孔,该铜线路穿过该通孔,铜线路与陶瓷基板之间设有钛层,该钛层的厚度为0.05~0.2μm;LED陶瓷支架依次经过打孔、超声波清洗、离子源蚀刻、磁控溅镀、化学沉铜、贴干膜、曝光、显影、电镀加厚、镀锡、去干膜、去钛、铜层及去锡步骤制成;藉此,由于采用导热系数大于20W/m·K的Al2O3陶瓷作为基材,故而散热性好;由于采用超声波清洗、离子源蚀刻及磁控溅射对陶瓷基板进行处理,并配合溅镀合适厚度的钛层,因此各金属层附着力高;本实用新型成本低,产品结构精细,散热性好,布线精度高,产品可直接用作精密型高功率LED芯片支架。