微波离子源
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100580858C

    公开(公告)日:2010-01-13

    申请号:CN200610145857.8

    申请日:2006-11-21

    IPC分类号: H01J27/02 H01J37/08

    CPC分类号: H01J27/18

    摘要: 本发明公开了一种微波离子源的新结构。在该结构中,波导采用单脊设计,用金属材料制成,通过冷却水强制冷却,脊厚度超过微波耦合窗板的中心,且波导脊的端面与微波耦合窗紧密贴合。这一些的独特设计,使微波离子源从根本上避免了高能返流二次电子束对微波耦合窗板的破坏,使微波离子源真正成为有超长寿命的离子源。

    一种同轴传输的多离子束加速器装置

    公开(公告)号:CN107333381A

    公开(公告)日:2017-11-07

    申请号:CN201710462223.3

    申请日:2017-06-19

    IPC分类号: H05H7/06

    CPC分类号: H05H7/06

    摘要: 本发明公开了一种同轴传输的多离子束加速器装置,装置包括进气系统、离子源、束流传输元件、真空系统和靶;束流传输元件包括束流聚焦元件、束流导向元件和后加速段,真空系统包括真空泵和真空室;进气系统、离子源、束流传输元件和靶分别按离子束传输方向顺序设置,其中,离子源、束流聚焦元件、束流导向元件和靶都在真空室内。本发明提供了一种能同时产生并同轴传输注入的多种离子束加速器装置。

    一种可消除杂质的双离子束加速器装置

    公开(公告)号:CN107278013A

    公开(公告)日:2017-10-20

    申请号:CN201710462233.7

    申请日:2017-06-19

    IPC分类号: H05H7/06 H05H9/00 H05H7/00

    摘要: 本发明公开了一种可消除杂质的双离子束加速器装置,装置一包括进气系统、离子源、束流传输元件和靶;束流传输元件包括杂质消除系统和后端束流传输元件;杂质消除系统由第一质量分析器、双孔选束光阑、聚焦透镜和第二质量分析器组成,其中第一质量分析器和第二质量分析器结构相同,电场、磁场设置方向相反,进气系统、离子源、第一质量分析器、双孔选束光阑、聚焦透镜、第二质量分析器、后端束流传输元件和靶分别按离子束传输方向顺序设置。本发明提供了一种既能够保证束流的纯度,又能低成本的实现了两种不同质量的离子束的产生及同轴注入的可消除杂质的双离子束加速器装置。

    一种微波离子源
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103426706A

    公开(公告)日:2013-12-04

    申请号:CN201210152561.4

    申请日:2012-05-17

    IPC分类号: H01J37/08 H01J37/32 H05H1/46

    摘要: 本发明公开了一种微波离子源,包括波导、放电室、励磁线圈、真空室、引出系统,其中波导通过微波窗同放电室的一端相连,放电室周围缠绕励磁线圈,另一端的离子出口与真空室相通,在离子束引出的通道上设置引出系统,引出系统将离子从放电室引出形成束流,所述的波导内设置一块中分板,中分板与微波窗紧密贴合,中分板内部通冷却水进行强制冷却。该发明提供了一种微波离子源的结构,该结构对称性好,放电室中等离子浓度均匀性好,有利于提高引出束流品质,且能够进一步延长微波源寿命的微波离子源。

    微波离子源
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1945782A

    公开(公告)日:2007-04-11

    申请号:CN200610145857.8

    申请日:2006-11-21

    IPC分类号: H01J27/02 H01J37/08

    CPC分类号: H01J27/18

    摘要: 本发明公开了一种微波离子源的新结构。在该结构中,波导采用单脊设计,用金属材料制成,通过冷却水强制冷却,脊厚度超过微波耦合窗板的中心,且波导脊的端面与微波耦合窗紧密贴合。这一些的独特设计,使微波离子源从根本上避免了高能返流二次电子束对微波耦合窗板的破坏,使微波离子源真正成为有超长寿命的离子源。

    一种同轴传输的多离子束加速器装置

    公开(公告)号:CN207099420U

    公开(公告)日:2018-03-13

    申请号:CN201720709157.0

    申请日:2017-06-19

    IPC分类号: H05H7/06

    摘要: 本实用新型公开了一种同轴传输的多离子束加速器装置,装置包括进气系统、离子源、束流传输元件、真空系统和靶;束流传输元件包括束流聚焦元件、束流导向元件和后加速段,真空系统包括真空泵和真空室;进气系统、离子源、束流传输元件和靶分别按离子束传输方向顺序设置,其中,离子源、束流聚焦元件、束流导向元件和靶都在真空室内。本实用新型提供了一种能同时产生并同轴传输注入的多种离子束加速器装置。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种可消除杂质的双离子束加速器装置

    公开(公告)号:CN206908934U

    公开(公告)日:2018-01-19

    申请号:CN201720709156.6

    申请日:2017-06-19

    IPC分类号: H05H7/06 H05H9/00 H05H7/00

    摘要: 本实用新型公开了一种可消除杂质的双离子束加速器装置,装置一包括进气系统、离子源、束流传输元件和靶;束流传输元件包括杂质消除系统和后端束流传输元件;杂质消除系统由第一质量分析器、双孔选束光阑、聚焦透镜和第二质量分析器组成,其中第一质量分析器和第二质量分析器结构相同,电场、磁场设置方向相反,进气系统、离子源、第一质量分析器、双孔选束光阑、聚焦透镜、第二质量分析器、后端束流传输元件和靶分别按离子束传输方向顺序设置。本实用新型提供了一种既能够保证束流的纯度,又能低成本的实现了两种不同质量的离子束的产生及同轴注入的可消除杂质的双离子束加速器装置。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利