公开(公告)号：CN112291912A

公开(公告)日：2021-01-29

申请号：CN202011319587.4

申请日：2020-11-23

申请人： 中国工程物理研究院应用电子学研究所

发明人： 李鹏 ,  王建新 ,  周征 ,  胡栋材 ,  肖德鑫 ,  吴岱 ,  黎明 ,  杨兴繁 ,  王远 ,  王孝忠 ,  赵剑衡 ,  陈门雪 ,  鲁燕华 ,  王汉斌 ,  刘宇 ,  单李军 ,  沈旭明 ,  和天慧 ,  徐勇 ,  周奎 ,  劳成龙 ,  罗星 ,  白燕 ,  闫陇刚 ,  邓德荣 ,  陈立均 ,  刘婕 ,  张德敏 ,  潘清 ,  柏伟 ,  陈亚男 ,  邓仕钰 ,  李文君 ,  宋志大 ,  张成鑫 ,  刘清华 ,  李敬 ,  李寿涛 ,  李世根 ,  程云 ,  蒲晓媛 ,  涂国锋 ,  蔡哲 ,  陈云斌 ,  力涛 ,  石正军 ,  罗为 ,  刘春林 ,  张小丽 ,  张冬 ,  余虹 ,  丁玉寿 ,  李雷

IPC分类号： H05G2/00 ,  G01N23/046 ,  G01B15/00

摘要： 本发明公开一种高能微焦点X射线生产设备，包括用于生成高能电子束的电子源组件和用于被电子束轰击生成高能X射线的旋转靶设备，电子源组件生成的高能聚焦电子束轰击到旋转靶设备上生成高能微焦点X射线。本申请通过采用特定的电子源和直线加速器相配合，提供长宏脉冲高平均流强的电子束，再通过螺线管和强聚焦四极透镜组的聚焦，将长宏脉冲高平均流强的电子束横向尺寸在打靶位置聚焦到比较小的尺寸，并通过束斑测量组件对电子束横向尺寸进行精确测量控制，将束斑尺寸控制到0.1mm以下，实现高能微焦点X射线输出的目的。

公开(公告)号：CN112333908A

公开(公告)日：2021-02-05

申请号：CN202011319588.9

申请日：2020-11-23

申请人： 中国工程物理研究院应用电子学研究所

发明人： 刘宇 ,  王建新 ,  肖德鑫 ,  李鹏 ,  胡栋材 ,  周征 ,  吴岱 ,  黎明 ,  杨兴繁 ,  王远 ,  王孝忠 ,  赵剑衡 ,  陈门雪 ,  鲁燕华 ,  王汉斌 ,  单李军 ,  沈旭明 ,  和天慧 ,  徐勇 ,  周奎 ,  劳成龙 ,  罗星 ,  白燕 ,  闫陇刚 ,  邓德荣 ,  陈立均 ,  刘婕 ,  张德敏 ,  潘清 ,  柏伟 ,  陈亚男 ,  邓仕钰 ,  李文君 ,  宋志大 ,  张成鑫 ,  刘清华 ,  李敬 ,  李寿涛 ,  李世根 ,  程云 ,  蒲晓媛 ,  涂国锋 ,  蔡哲 ,  陈云斌 ,  力涛 ,  石正军 ,  罗为 ,  刘春林 ,  张小丽 ,  张冬 ,  余虹 ,  丁玉寿 ,  李雷

IPC分类号： H05G2/00 ,  G01N23/046

摘要： 本发明公开一种用于高能微焦点X射线的旋转靶，包括用于分散电子束打靶能量的旋转靶和用于测量电子束束斑大小的束斑测量组件，所述旋转靶和束斑测量组件均可相对移动，使电子束在旋转靶和束斑测量组件的同一位置上形成的束斑。本申请通过提供一种可旋转的靶盘，分散电子束轰击靶盘的能量，通过在打靶前设置束斑测量靶以及移动机构，确保打到旋转靶上的电子束束斑分布尺寸可精确测量与控制，从而实现产生高能微焦点X射线的目的。

公开(公告)号：CN213305833U

公开(公告)日：2021-05-28

申请号：CN202022730699.0

申请日：2020-11-23

申请人： 中国工程物理研究院应用电子学研究所

发明人： 刘宇 ,  王建新 ,  肖德鑫 ,  李鹏 ,  胡栋材 ,  周征 ,  吴岱 ,  黎明 ,  杨兴繁 ,  王远 ,  王孝忠 ,  赵剑衡 ,  陈门雪 ,  鲁燕华 ,  王汉斌 ,  单李军 ,  沈旭明 ,  和天慧 ,  徐勇 ,  周奎 ,  劳成龙 ,  罗星 ,  白燕 ,  闫陇刚 ,  邓德荣 ,  陈立均 ,  刘婕 ,  张德敏 ,  潘清 ,  柏伟 ,  陈亚男 ,  邓仕钰 ,  李文君 ,  宋志大 ,  张成鑫 ,  刘清华 ,  李敬 ,  李寿涛 ,  李世根 ,  程云 ,  蒲晓媛 ,  涂国锋 ,  蔡哲 ,  陈云斌 ,  力涛 ,  石正军 ,  罗为 ,  刘春林 ,  张小丽 ,  张冬 ,  余虹 ,  丁玉寿 ,  李雷

IPC分类号： H05G2/00 ,  G01N23/046

摘要： 本实用新型公开一种用于高能微焦点X射线的旋转靶，包括用于分散电子束打靶能量的旋转靶和用于测量电子束束斑大小的束斑测量组件，所述旋转靶和束斑测量组件均可相对移动，使电子束在旋转靶和束斑测量组件的同一位置上形成的束斑。本申请通过提供一种可旋转的靶盘，分散电子束轰击靶盘的能量，通过在打靶前设置束斑测量靶以及移动机构，确保打到旋转靶上的电子束束斑分布尺寸可精确测量与控制，从而实现产生高能微焦点X射线的目的。

公开(公告)号：CN213305834U

公开(公告)日：2021-05-28

申请号：CN202022735994.5

申请日：2020-11-23

申请人： 中国工程物理研究院应用电子学研究所

发明人： 李鹏 ,  王建新 ,  周征 ,  胡栋材 ,  肖德鑫 ,  吴岱 ,  黎明 ,  杨兴繁 ,  王远 ,  王孝忠 ,  赵剑衡 ,  陈门雪 ,  鲁燕华 ,  王汉斌 ,  刘宇 ,  单李军 ,  沈旭明 ,  和天慧 ,  徐勇 ,  周奎 ,  劳成龙 ,  罗星 ,  白燕 ,  闫陇刚 ,  邓德荣 ,  陈立均 ,  刘婕 ,  张德敏 ,  潘清 ,  柏伟 ,  陈亚男 ,  邓仕钰 ,  李文君 ,  宋志大 ,  张成鑫 ,  刘清华 ,  李敬 ,  李寿涛 ,  李世根 ,  程云 ,  蒲晓媛 ,  涂国锋 ,  蔡哲 ,  陈云斌 ,  力涛 ,  石正军 ,  罗为 ,  刘春林 ,  张小丽 ,  张冬 ,  余虹 ,  丁玉寿 ,  李雷

IPC分类号： H05G2/00 ,  G01N23/046 ,  G01B15/00

摘要： 本实用新型公开一种高能微焦点X射线生产设备，包括用于生成高能电子束的电子源组件和用于被电子束轰击生成高能X射线的旋转靶设备，电子源组件生成的高能聚焦电子束轰击到旋转靶设备上生成高能微焦点X射线。本申请通过采用特定的电子源和直线加速器相配合，提供长宏脉冲高平均流强的电子束，再通过螺线管和强聚焦四极透镜组的聚焦，将长宏脉冲高平均流强的电子束横向尺寸在打靶位置聚焦到比较小的尺寸，并通过束斑测量组件对电子束横向尺寸进行精确测量控制，将束斑尺寸控制到0.1mm以下，实现高能微焦点X射线输出的目的。