一种用于微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的基片台

    公开(公告)号:CN106929828B

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN201710334592.4

    申请日:2017-05-12

    IPC分类号: C23C16/458

    摘要: 本发明公开一种用于微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的基片台,属于晶体合成技术领域。该基片台置于微波等离子体化学气相沉积金刚石膜装置反应腔体内的水冷台上,其结构包含用于放置沉积基底的中心凹槽、环形外凸出部、环形内凸出部、介于内外凸出部之间的环形凹槽及位于外凸出部外侧的外表面。该基片台独立于反应腔体及水冷台,用于放置沉积基底并在其上方形成均匀稳定的电场及等离子体分布,提高所制备的金刚石膜的均匀性,同时能够有效防止基片台非沉积区域生成的杂质溅射至沉积基底上污染金刚石膜。本发明具有设计制作简单、能够制备大面积金刚石膜、易于调节尺寸以适合制备不同尺寸及厚度的金刚石膜、制备的金刚石膜品质高等优点。

    一种射线产生装置及使用方法及应用

    公开(公告)号:CN115802579A

    公开(公告)日:2023-03-14

    申请号:CN202211613747.5

    申请日:2022-12-15

    IPC分类号: H05H7/00 H01P1/38

    摘要: 本发明涉及一种射线产生装置及使用方法及应用,属于加速器技术领域,射线产生装置包括微波源、环形器、加速管、粒子源以及脉冲调制器,所述加速管设为多个,多个加速管的结构相同,所述微波源产生不同频率范围的微波,在所述微波加速经所述粒子源发出的粒子束形成射线的过程中,多个加速管的运行温度不同,促使多个加速管的谐振频率范围互不重叠,本发明利用一个微波源分时复用为多个加速管提供不同频率范围的微波,节约建设成本及空间。