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公开(公告)号：CN116009242B
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202211544582.0
申请日：2022-12-02
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明提供了一种提高波前校正精度的方法及其系统，本发明根据待校正光束波前畸变的空间分布特征选择最优化的入射角度和位置，从而显著提高波前校正精度。本发明首先在待校正光束正入射到变形镜的条件下，利用波前传感器测量变形镜的面形响应函数和待校正光束像差，然后利用计算机控制器对正入射条件下的面形响应函数和波前畸变数据进行分析计算，得到不同入射角度和入射位置情况下变形镜的面形响应函数及该响应函数对波前畸变的校正效果，寻找到最优化的入射角度和入射位置，最后通过调整平台对变形镜进行角度和位置调节后，在新的入射角度和入射位置下进行波前畸变的高精度校正。
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公开(公告)号：CN117666122A
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202311651243.7
申请日：2023-12-04
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明涉及一种波前校正方法及校正装置，属于波前校正技术领域，波前校正方法为激光光束入射至波前传感器，利用波前传感器获取激光光束的波前信息；根据所述波前信息计算得到波前斜率；将所述波前信息以及所述波前斜率组合得到综合型波前信息，依据所述综合型波前信息以及变形镜响应函数，计算得到变形镜的控制电压，本发明能够解决现有技术中存在的因单一的考虑波前或斜率信息，在一定程度上限制变形镜波前校正能力的技术问题。
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公开(公告)号：CN116444167A
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202310480173.7
申请日：2023-04-28
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： C03C15/00
摘要： 本发明涉及一种提升熔石英元件抗紫外激光诱导损伤性能的刻蚀方法，属于熔石英元件加工技术领域，对熔石英元件的表面进行反应离子刻蚀处理，所述反应离子刻蚀采用的等离子体包括氟碳等离子体、氩等离子体和氧等离子体，本发明采用纯干法刻蚀对熔石英元件进行表面后处理，在现有反应离子刻蚀技术基础上，通过在原料气中添加一定量的氧气，或是在刻蚀完成之后继续用氧等离子对样品进行一定时间的后处理，抑制F元素与熔石英基体的结合，抑制或修复次生缺陷的生成，提高元件抗损伤性能提升幅度。
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公开(公告)号：CN108736302B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN201810855263.9
申请日：2018-07-31
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明公开了一种基于双折射晶体的离轴八程激光放大装置及设计方法，涉及激光器技术领域。该装置由偏振分光棱镜、双折射晶体、45°法拉第旋光器、空间滤波器、激光放大头和反射镜组成。种子脉冲激光注入到所述的离轴八程激光放大器装置，在所述的偏振分光棱镜、双折射晶体、45°法拉第旋光器和反射镜的控制下，以一定离轴角度、八次经过激光放大头实现种子激光的离轴八程放大。本发明能明显提高激光放大器的能量提取效率，能明显改善输出激光的光束质量和输出脉冲信噪比，代替传统的电光开关避免了激光离轴角度带来的损耗，提升激光放大器的能量稳定性，使得整个放大器系统的可靠性和性价比得到了较大提高，并获得良好的脉冲信噪比，在高功率激光器装置中具有重要应用。
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公开(公告)号：CN116009242A
公开(公告)日：2023-04-25
申请号：CN202211544582.0
申请日：2022-12-02
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明提供了一种提高波前校正精度的方法及其系统，本发明根据待校正光束波前畸变的空间分布特征选择最优化的入射角度和位置，从而显著提高波前校正精度。本发明首先在待校正光束正入射到变形镜的条件下，利用波前传感器测量变形镜的面形响应函数和待校正光束像差，然后利用计算机控制器对正入射条件下的面形响应函数和波前畸变数据进行分析计算，得到不同入射角度和入射位置情况下变形镜的面形响应函数及该响应函数对波前畸变的校正效果，寻找到最优化的入射角度和入射位置，最后通过调整平台对变形镜进行角度和位置调节后，在新的入射角度和入射位置下进行波前畸变的高精度校正。
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公开(公告)号：CN114122879A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202210083660.5
申请日：2022-01-25
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： H01S3/07 , H01S3/08 , H01S3/0941 , H01S3/115 , H01S3/131
摘要： 本申请属于全固态激光器技术领域，具体公开一种自注入单纵模调Q激光器，包括左右依次排列的尾纤LD泵浦源、光纤耦合器、低掺杂增益介质微片、增益介质、偏振片、电光开关、1/4波片以及输出腔镜，所述低掺杂增益介质微片包括镀有泵浦波长增透/激光波长高反的双色膜层的前表面和双色分光膜层的后表面。本申请的激光器结构使用一套尾纤LD泵浦源同时泵浦复合腔内的低掺杂增益介质微片和增益介质，节约了器件成本，同时又可以保证复合腔增益区对准，有利于激光器稳定运行，通过自注入单纵模种子并调Q输出，可以得到近衍射极限的窄线宽单频脉冲激光。
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公开(公告)号：CN105161963B
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201510639615.3
申请日：2015-09-30
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明公开了一种片状激光放大器，包括片箱、灯箱和框架，所述片箱内固定连接有增益介质，所述灯箱包括氙灯和隔板玻璃，其特征在于，所述片箱包括上端面、下端面、入射面、出射面和2个泵浦面，所述灯箱为2个，分别为第一灯箱和第二灯箱，所述片箱固定连接在所述框架的中心，所述第一灯箱和第二灯箱分别与所述片箱的2个泵浦面相对，所述灯箱与所述框架固定连接，所述第一灯箱的氙灯和第二灯箱的氙灯沿激光主光路方向呈对称排布，小信号增益系数大，增益均匀性好。
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公开(公告)号：CN104659647B
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：CN201510076777.0
申请日：2015-02-13
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
发明人： 谢旭东 , 陈骥 , 唐军 , 党钊 , 高松 , 唐菱 , 朱启华 , 胡东霞 , 郑万国 , 王正辉 , 王超 , 陈远斌 , 汪凌芳 , 陈林 , 丁磊 , 刘建国 , 刘勇 , 卢振华
摘要： 本发明公开了一种基于前缀脉冲的激光能量稳定装置及其能量稳定方法，属于激光技术领域，包括主光路和取样光路，所述主光路包括种子光源、普克尔盒电光开关、削波开关，所述取样光路包括依次设置的：分束镜、光强可调衰减器、光电导开关，所述光电导开关的两端分别与普克尔盒电光开关的两极相连接，本发明采用普克尔盒电光开关与光电导开关结合，预先在普克尔盒电光开关上施加电压，在主激光脉冲前先产生一个前缀脉冲，利用前缀脉冲的能量起伏去改变光电导开关的动态阻值，从而改变普克尔盒电光开关的实际电压及普克尔盒电光开关的透射率，实现对主激光脉冲的能量稳定控制，具有同发稳定的特征，并使主激光脉冲的时间波形不发生畸变。
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公开(公告)号：CN107404060A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201710619646.1
申请日：2017-07-26
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
CPC分类号： H01S3/027 , H01S3/0404 , H01S3/0604 , H01S3/091 , H01S3/1611 , H01S3/175
摘要： 本发明涉及激光领域，尤其涉及一种片状激光放大器和片箱。包括片箱、灯箱和洁净厢体。所述片箱内安装有增益介质，包括框架构件、气体导流盒、顶部反射器与底部反射器；所述灯箱包括氙灯、电缆接插件与隔板玻璃；所述片箱为2个，分别为第一片箱和第二片箱；所述灯箱为3个，分别为第一侧灯箱、第二侧灯箱和第一中灯箱。所述片箱内增益介质沿垂直方向4片叠加。所述片箱、灯箱与端镜固定连接在所述洁净厢体的内部，所述2个片箱与3个灯箱按序分别为第一侧灯箱、第一片箱、第一中灯箱、第一中灯箱、第二片箱与第二侧灯箱。本发明的组合式片状激光放大器结构紧凑，效率高，小信号增益系数大，增益均匀性好。
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公开(公告)号：CN106384932A
公开(公告)日：2017-02-08
申请号：CN201611072771.7
申请日：2016-11-29
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： H01S3/10
CPC分类号： H01S3/10023 , H01S3/10053
摘要： 本发明涉及一种基于波前畸变校正的多程激光放大器及其使用方法，属于高功率固体激光器技术领域，包括主光路和侧光路，沿着激光注入方向，所述主光路为直线式结构，其依次包括偏振分束镜、1/4波片、电光晶体、第一空间滤波器、第一旋光器、激光放大头、第二旋光器、第二空间滤波器、第一体布拉格光栅、第二体布拉格光栅和第一全反镜，所述第一体布拉格光栅和第二体布拉格光栅的栅线方向相互垂直，所述侧光路由第二全反镜构成，所述第二全反镜与主光路平行设置，本发明能够获得光束质量良好的光斑，控制方法简单，同时，本发明采用的波前校正方法不属于非线性效应，没有阈值特性，适用范围广，能够保证激光脉冲波形的保形放大。
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