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公开(公告)号：CN119616470A
公开(公告)日：2025-03-14
申请号：CN202311174091.6
申请日：2023-09-12
Applicant: 中国石油化工股份有限公司 , 中国石油化工股份有限公司中原油田分公司
Abstract: 本发明属于油气田勘探和开发技术领域，具体涉及一种薄层页岩微构造刻画方法。具体步骤包括：本发明在水平井页岩靶窗内部划分标志层，利用随钻自然伽马和岩屑特征即时判断标志层，在标志层间地层厚度变化的基础下，根据标志层与井轨迹的交切关系计算地层倾角及倾向，进而对目标区进行微构造刻画，具有成本更为低廉、资料来源充足、准确性高的特点，不仅能够实现薄层页岩微构造刻画，还能在水平井的钻进过程中为井轨迹的调整提供有力的依据，此外还能为井工厂模式下相邻待钻水平井井轨迹的优化提供依据。
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