基于光梳光源的干涉光谱成像系统及方法

    公开(公告)号:CN117309788A

    公开(公告)日:2023-12-29

    申请号:CN202311251839.8

    申请日:2023-09-26

    Abstract: 本公开提供了一种基于光梳光源的干涉光谱成像系统及方法,其中,该成像系统包括:光梳光源单元,用于提供第一光梳光源;气体吸收单元,用于装载待测气体,其中,第一光梳光源透过待测气体后得到第二光梳光源;光源处理单元,用于对第二光梳光源进行准直处理和滤波处理以得到入射光;干涉单元,用于使入射光发生干涉形成干涉条纹;成像单元,用于对干涉条纹进行成像处理得到条纹图样;分析单元,用于对条纹图样进行分析处理得到分析结果,其中,分析结果包括所述待测气体的成分。

Patent Agency Ranking