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公开(公告)号：CN108542346B
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN201810108536.3
申请日：2018-02-02
申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC分类号： A61B3/103
摘要： 一种自动检影验光光学系统，包括封装在壳体内的照明光源、分划板、平板、第二反射镜、投影物镜、带孔反射镜、接收物镜、接收图像传感器、分光镜、定位物镜，第一反射镜和定位图像传感器；在该壳体上设有保护窗口，该保护窗口的四周设有定位照明灯。本发明通过平板的摆动可以精确模拟检影镜的运动过程，使人工检影中摆动检影镜的过程变得简单、快捷和准确，同时根据照明圆环的直径可以快速准确地计算出检影验光的距离，消除了人工检影验光时验光师本身屈光不正带来的验光误差，提高了检影验光精度。
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公开(公告)号：CN109164575B
公开(公告)日：2020-08-28
申请号：CN201811189010.9
申请日：2018-10-12
申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所
摘要： 一种基于双阈值算法的光学系统初始结构生成方法，其工作步骤依次为：1)根据用户需求得到光学系统设计要求。2)通过光学系统设计要求基于双阈值算法得到光学系统一阶结构。3)通过得到的光学系统一阶结构优化出相应的薄透镜结构。4)由光学系统薄透镜结构得到光学系统初始结构。本发明提出的光学系统初始结构生成方法操作简单，针对性强，能显著提高光学设计效率。
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公开(公告)号：CN108983559A
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：CN201810895283.9
申请日：2018-08-08
申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种光刻机光瞳校正器及其使用方法，其构成包括滤光元件和致动元件，每个致动元件与至少一个滤光元件相结合，所述的滤光元件是可折叠的，借助所述的致动元件在光瞳面内多维度运动。所述的滤光元件包括固定机构、牵引机构，以及连接在所述的固定机构和牵引机构之间的挡光机构，所述的固定机构和牵引机构至少一个与所述的致动元件相结合。在本发明光刻机光瞳校正器使用方法中，通过调整所述滤光元件在光瞳面内的位置，改变能量衰减百分比，将光瞳特性参数校正至满足要求的范围内，从而实现对光瞳能量分布平衡性的校正。
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公开(公告)号：CN108542346A
公开(公告)日：2018-09-18
申请号：CN201810108536.3
申请日：2018-02-02
申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC分类号： A61B3/103
摘要： 一种自动检影验光光学系统，包括封装在壳体内的照明光源、分划板、平板、第二反射镜、投影物镜、带孔反射镜、接收物镜、接收图像传感器、分光镜、定位物镜，第一反射镜和定位图像传感器；在该壳体上设有保护窗口，该保护窗口的四周设有定位照明灯。本发明通过平板的摆动可以精确模拟检影镜的运动过程，使人工检影中摆动检影镜的过程变得简单、快捷和准确，同时根据照明圆环的直径可以快速准确地计算出检影验光的距离，消除了人工检影验光时验光师本身屈光不正带来的验光误差，提高了检影验光精度。
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公开(公告)号：CN107065443A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201710000725.4
申请日：2017-01-03
申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70075 , G03F7/70191
摘要： 一种光刻机照明均匀性校正装置和校正方法，校正装置包括基座、上校正模块和下校正模块。上校正模块与下校正模块放置于照明光场的扫描方向的两侧，且相对于照明光场非扫描方向对称分布。其中上校正模块与下校正模块中均有一块柔性薄板，通过控制该柔性薄板横截面上不同点的位移来得到相应的挠曲变形，并沿照明光场扫描方向运动进入照明光场以遮挡部分照明光，从而达到校正照明均匀性的目的。因柔性薄板发生挠曲变形后的轮廓为连续曲线，所以本发明的装置具有更高的校正能力和校正分辨率。
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公开(公告)号：CN105589300A
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201610009315.1
申请日：2016-01-07
申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/7015 , G03F7/702
摘要： 一种光刻照明系统，包括光源，以及沿该光源的出射光方向依次放置扩束镜组、衍射光学元件等，还包括散射板，该散射板放置在所述的微透镜阵列的前方或后方，所述散射板的输出光束在扫描方向上的角分布满足高斯分布，所述散射板由单面或双面的一维柱面镜阵列构成，该一维柱面镜阵列是由不同口径pLS,n的柱面镜组成，该柱面镜中的口径pLS,n和柱面镜焦距fT的比值满足特定的条件。本发明实现均匀化分布和高斯分布的器件分离，有利于实现非扫描方向上的高均匀性，采用微透镜阵列实现均匀光场分布，再利用散射板实现高斯光场分布，最终在聚光镜组后焦面的扫描方向上实现超高斯光场分布，通过设计不同的散射板能有效控制超高斯光强分布轮廓。
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公开(公告)号：CN103217872A
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN201310139490.9
申请日：2013-04-19
申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种光刻机用微透镜阵列的检测装置和检测方法，检测装置的过程包括准分子激光器，沿该准分子激光器的输出光束方向依次是同轴的扩束镜、能量衰减片、光阑、聚光镜和图像传感器，所述的微透镜阵列置于二维电动平台上，所述的微透镜阵列的后焦面与所述的聚光镜的前焦面重合；所述的图像传感器位于所述的聚光镜的后焦面，所述的图像传感器的输出端与计算机的输入端相连。本发明可以精确测量光刻机照明系统中微透镜阵列的不均匀性和能量利用率，可以完整的获得全口径微透镜形成的远场光斑图像。
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公开(公告)号：CN103207530A
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：CN201310096140.9
申请日：2013-03-22
申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所
CPC分类号： G02B27/0081 , G02B5/001 , G02B5/1838 , G02B26/0816 , G02B27/0905 , G02B27/0911 , G02B27/0972 , G02B27/283 , G02B27/4222 , G03F7/20 , G03F7/70091 , G03F7/70108
摘要： 一种光刻机光瞳整形光学系统及产生离轴照明模式的方法，其构成包括模式产生单元、可旋转波片、偏振分光单元、环一产生单元和环二产生单元。本发明通过选择相应的模式产生单元的衍射光学元件和适当的调整，可以产生光瞳面光强与内外直径连续可变、单环形照明模式和双环形照明多种照明模式。
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公开(公告)号：CN103149809A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201310096136.2
申请日：2013-03-22
申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所
摘要： 一种光刻机设备用离轴照明装置，其特点在于该装置包括照明单元、衍射光学元件单元、变焦准直镜组、四分之一波片、负轴锥镜、45°旋光片和正轴锥镜；所述的照明单元由准分子激光器和扩束准直镜组组成。本发明对光刻机可实现双环照明，双二极照明，双四极照明。
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