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公开(公告)号：CN109564396A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201780048828.6
申请日：2017-08-08
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号： G03F7/70825 , F16F15/03 , G02B7/1828 , G03F7/70075 , G03F7/70158 , G03F7/702 , G03F7/709 , G21K1/06
摘要： 本发明关于光学模块，其具有第一及第二组件(108，109)、支撑结构(112)以及防撞装置(114)。第一组件(108)由支撑结构(112)支撑且配置为邻近第二组件(109)并与第二组件(109)相距一距离以形成间隙。支撑结构(112)定义相对运动路径，第一及第二组件(108，109)在干扰的影响下相对在相对运动路径上相对彼此移动，若防撞装置(114)不起作用，则发生第一及第二组件(108，109)的碰撞区域(108.1，109.1)之间的碰撞。防撞装置(114)包含产生第一场的在第一组件(108)上的第一防撞单元(114.1)、并包含指派给第一防撞单元(114.1)并产生第二场的在第二组件(109)上的第二防撞单元。当第一及第二组件(108，109)逐渐地接近彼此时，第一及第二场在第一组件(108)上产生抵消接近的增加的反作用力。第一和/或第二防撞单元(114.1，114.2)包含产生部分场的多个防撞元件，其被指派给彼此使得其部分场的叠加产生一场，其场线密度随着沿相对运动路径离防撞单元(114.1，114.2)的距离增加而比部分场中的一个的场线密度降低地更为急剧。
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公开(公告)号：CN108369389A
公开(公告)日：2018-08-03
申请号：CN201680074454.0
申请日：2016-12-06
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70525 , G03F7/702 , G03F7/70641 , G03F7/70683 , G03F7/7085
摘要： 光刻设备(LA)在衬底上印制产品特征和至少一个聚焦量测图案(T)。焦点量测图案由反射式掩模版限定，并且使用以倾斜角度(θ)入射的EUV辐射(404)执行印制。聚焦量测图案包括第一特征(422)组的周期性阵列。相邻的第一特征组之间的间隔(S1)远大于每个组内的第一特征的尺寸(CD)。由于倾斜的照射，印制的第一特征作为聚焦误差的函数而变形和/或位移。可以提供第二特征424作为可以看到第一特征的位移的参考。这种变形和/或位移的测量值可以通过测量不对称性作为印制的图案的性质而得到。测量可以在更长的波长下完成，例如在350-800nm的范围内。
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公开(公告)号：CN105334705B
公开(公告)日：2018-06-19
申请号：CN201510484698.3
申请日：2015-08-04
申请人： 佳能株式会社
发明人： 川岛春名
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/09 , G02B5/10 , G02B17/0657 , G02B19/0019 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G03F7/70175
摘要： 本发明涉及光源装置、照明装置、曝光装置和装置制造方法。提供一种光源装置，该光源装置包括：被配置为从具有预先确定的尺寸的发光区域发射光束的光源；和被配置为会聚光束而允许光束出射到外面的会聚器。发光区域具有旋转对称的发光强度分布。会聚器关于被定义为发光区域的旋转对称轴的光轴旋转对称、被设置为包围发光区域、并且具有分别具有用于反射从发光区域发射的光束的反射表面的四个或更多个反射镜。所述四个或更多个反射镜包含反射表面为椭圆形的椭圆表面反射镜和反射表面为球面的球面反射镜。椭圆表面反射镜和球面反射镜沿所述光轴的方向被交替布置，并且，被一个球面反射镜反射的光束进一步被跨着发光区域相对设置的一个椭圆表面反射镜反射，而允许光束出射到外面。
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公开(公告)号：CN107851473A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201680041530.8
申请日：2016-07-05
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人： W.B.J.哈克福特 , R.P.霍杰沃尔斯特 , P.T.罗格斯 , K.希尔德 , T.格鲁纳
IPC分类号： G21K1/06
CPC分类号： G02B26/0858 , G03F7/7015 , G03F7/70191 , G03F7/702 , G03F7/70316 , G21K1/062
摘要： 投射曝光设备(WSC)的反射镜布置(1)，包括多个反射镜元件(2a、2b)，其邻近布置并且共同形成反射镜布置(1)的反射镜表面(3)。每个反射镜(2a、2b)包括基板(4a、4b)和在基板(4a、4b)上的多层布置(5a、5b)。多层布置(5a、5b)包含反射层系统(6a、6b)和压电层(8a、8b)，该反射层系统具有形成反射镜表面(3)的部分的辐射入射表面(7a、7b)，该压电层布置在辐射入射表面(7a、7b)和基板(4a、4b)之间。每个反射镜元件(2a、2b)包括与压电层(8a、8b)相关联的电极布置(9a、9b、9c)，以产生电场，其中压电层(8a、8b)的层厚度(tp)可以通过电场控制。提供将邻近的电极布置(9a、9b、9c)的邻近的第一电极和第二电极(9a、9b)电互连的互连布置(10)。根据一个构想，互连布置(10)产生在第一电极和第二电极(9a、9b)之间的间隙区域(11)中的互连电场，其中该互连电场在第一电极(9a)处的第一电场和在第二电极(9b)处的第二电场之间产生连续过渡。根据其他构想，互连布置(10)在第一电极和第二电极(9a、9b)之间的间隙区域(11)中的电阻(Ri)大于第一电极和第二电极(9a、9b)的电阻(Rw)，并且小于具有第一和第二电极(9a、9b)的邻近电极布置(9a、9b、9c)的压电层(8a、8b)电阻(RI)。
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公开(公告)号：CN107003615A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201580064782.8
申请日：2015-11-17
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/08 , G02B17/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/702 , G02B17/0605 , G02B17/0615 , G03B21/28 , G03F7/70233 , G03F7/709
摘要： 提供一种将物体的图像投影到像面上的投影光学系统。投影光学系统包括：包含第一凹面镜、凸面镜和第二凹面镜的成像光学系统；具有各自重新引导光路的第一反射表面和第二反射表面的光学部件；和支撑凸面镜的支撑部件。第一反射表面、第一凹面镜、凸面镜、第二凹面镜和第二反射表面在来自物面的光的行进方向上按顺序被设置。光学部件具有在面向凸面镜的一侧具有开口的通孔。支撑部件延伸贯穿通孔并且从开口延伸到凸面镜。
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公开(公告)号：CN103548095B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：CN201280025144.1
申请日：2012-05-16
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人： M.恩德里斯
CPC分类号： G03F7/70075 , G03F7/70033 , G03F7/70158 , G03F7/70175 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G21K1/02
摘要： 一种用于EUV投射曝光设备的照明光学单元(4)，具有光阑(23)，光阑包括具有离散对称组的辐射透射区域。光阑(23)的形状适配于光瞳分面反射镜(18)的分面形状或辐射源(3)的形状。光阑(23)优选地布置在中间焦平面的区域中。
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公开(公告)号：CN104364715B
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201380027803.X
申请日：2013-05-06
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人： M.莫尔
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7015 , G02B17/002 , G02B26/0816 , G03F7/70075 , G03F7/70091 , G03F7/70116 , G03F7/70191 , G03F7/702 , G03F7/70566
摘要： 用于投射光刻的照明光学单元(32)利用照明光(14)照明物场(5)，要成像的物可布置在物场中。照明光学单元具有集光器，聚集用于光源对照明光(14)的发射。集光器布置成其将来自光源的照明光(14)转移至中间焦点(16)。照明光学单元(32)还具有场分面反射镜(20)和瞳分面反射镜(21)，场分面反射镜和瞳分面反射镜均具有多个分面(22,23)。场分面(22)通过转移光学单元(21)成像至物场(5)。照明光学单元(32)还具有单独反射镜阵列(17)，单独反射镜阵列具有可以单独被驱动的方式倾斜的单独反射镜，所述阵列在照明光路(26)中布置在场分面反射镜(20)的上游，中间焦点(16)的下游。中间焦点(16)经由照明通道(14)成像到所述瞳分面反射镜(21)所在的空间区域(25)中，所述照明通道均由单独反射镜中的至少一个和场分面(22)中的至少一个形成并引导所述照明光(14)的部分束。这导致对要成像的物的照明可被灵活地设计并容易适配于预定值。
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公开(公告)号：CN106030405A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201580009671.7
申请日：2015-01-27
申请人： 保罗·谢勒学院
CPC分类号： G03F7/70641 , G03F1/24 , G03F1/84 , G03F7/702 , G03F7/7065 , G03F7/70666
摘要： 对反射样品特别是针对图案化和空白的DUV、EUV掩膜进行成像的设备及方法包括布置光学系统；曝光掩膜以获得包括断层图像的空间像以及使用扫描相干衍射方法根据微型小孔系统来显影光学系统的与空间像相关联的光学参数。所述设备包括：a)诸如EUV源、DUV源、BEUV或X射线源的辐射源(10)，辐射源能够具有相关的低时间或空间相干性以发射光束(22)；b)诸如菲涅耳板或环面镜的第一聚焦元件(12)，第一聚焦元件用于将所发射的光束聚焦到所需延伸；c)镜子(16)，镜子朝向要被分析的样品(6)反射经聚焦的光束；光束以相对于样品(6)的表面的法线向量成2°至25°优选地约6°的角度被引向样品(6)；d)小孔孔板(18)，小孔孔板通过其第一孔(a1)允许将光束直径聚焦和截取到期望程度，从而相对于从光源(10)初始发射的光束(22)，也将光束形成为更单色；e)机械装置(17)，机械装置沿垂直于样品表面的法线向量的方向连续地或逐步地移动样品(6)以允许分析样品(6)，样品以入射光的相同角度反射穿过被设置在样品(6)的上游的小孔孔板(18)的第一孔(a1)的光束，入射光的角度例如参照上述的优选示例如6°；f)具有作为透明窗的第二孔(a2)的所述小孔孔板(18)，小孔孔板通过其被设置成与第一孔(a1)相邻的第二孔允许限制由样品(6)反射的光束的直径从而调整光束的直径；以及g)像素检测器(20)，像素检测器分析通过第二孔(a2)的反射光束。
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公开(公告)号：CN105892234A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201610053543.9
申请日：2016-01-26
申请人： 北京理工大学
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/702
摘要： 本发明提供一种可实现像素化光瞳的极紫外光刻自由曲面照明系统，沿着光路传播方向，所述系统包括三组反射镜，第一组反射镜由视场复眼阵列组成，第二组反射镜由光阑复眼阵列组成，第三组反射镜为中继镜组；其中，所述视场复眼阵列由N个视场复眼构成，每一视场复眼为一个自由曲面反射镜，每一反射镜的反射面为矩形，且所有矩形的尺寸均不相同；所述光阑复眼阵列由N个光阑复眼构成，每一光阑复眼为一个球面反射镜或自由曲面反射镜，每一反射镜的反射面均为矩形，且所有矩形的尺寸相同；视场复眼阵列上的N个视场复眼与光阑复眼阵列上的N个光阑复眼一一对应，所述N为照明系统出瞳面上光强值不为零的像素的总数；本发明系统可在出瞳面上实现像素化光强分布。
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公开(公告)号：CN103713474B
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201410006090.5
申请日：2008-11-20
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70191
摘要： 一种用于微光刻的照明光学部件，该照明光学部件包括用于将照明光引导到物平面中要照明的物场的光学组件。根据本发明的第一方面，照明光学部件(26)将照明光辐射束(3)分成多个辐射子束(28至30)，该多个辐射子束被分配物场照明的不同照明角。照明光学部件(26)被配置以使辐射子束(28至30)中的至少一些在交叠平面中交叠，该交叠平面与物平面分开且不被成像到其中发生交叠的物平面。该交叠使得交叠辐射子束(28至30)的边缘(32)至少部分地重合。根据本发明的另一方面，场强度设定装置(24)包括多个相邻的单独的光阑(27)，当对那里曝光时，该多个相邻的单独的光阑至少减弱照明光(3)。这些单独的光阑(27)在平行于物移动方向(v)的方向上可插入到照明光辐射束(3)中。场强度设定装置(24)的所有单独的光阑(27)可从同一侧插入到照明光辐射束(3)中。
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