一种分压漏率测量装置及方法

    公开(公告)号:CN106017819B

    公开(公告)日:2018-09-18

    申请号:CN201610473484.0

    申请日:2016-06-24

    IPC分类号: G01M3/20

    摘要: 本发明公开了一种真空密封件分压漏率测量装置及真空密封件分压漏率测量方法,用于测量真空密封件漏气组分及各组分的分压漏率。该装置包括第一真空规(1)、质谱计(2)、标准漏孔(3)、截止阀(4)、真空室(5)、插板阀(6)、角阀(7)、限流小孔(8)、抽气泵组(9)、第二真空规(10)、电磁阀(11)、抽气泵组(12)、截止阀(13)、气瓶(14)以及真空密封件(15)。该方法包括:(1)测量氦气本底离子流IO和本底气体组分分压Pi,bg;(2)测量标准漏孔氦气离子流Is;(3)测量真空密封件氦气离子流IL和漏气组分分压Pi,L;(4)计算真空密封件分压漏率Qi,L和总漏率QL。

    一种动态气体锁的试验装置和试验方法

    公开(公告)号:CN105842997B

    公开(公告)日:2018-03-06

    申请号:CN201610390695.8

    申请日:2016-06-03

    IPC分类号: G03F7/20

    CPC分类号: G03F7/70916 G03F7/70933

    摘要: 本发明公开了一种动态气体锁的试验装置,其包括分别连接所要试验的动态气体锁两端的模拟清洁真空腔室和模拟超清洁真空腔室。模拟清洁真空腔室中有污染发射源,用于发射模拟污染物,该模拟污染物用于模拟诸如极紫外光刻机中硅片表面产生的污染物;模拟超清洁真空腔室中配置有测量腔内气体组分和分压的设备。模拟清洁真空腔室和模拟超清洁真空腔室上分别布置有真空计组。本发明能有效验证动态气体锁的抑制效果。

    一种材料分压放气率测试系统及方法

    公开(公告)号:CN105021494B

    公开(公告)日:2017-12-19

    申请号:CN201510427893.2

    申请日:2015-07-20

    IPC分类号: G01N7/14

    摘要: 本发明公开了一种材料分压放气率测试装置及方法,该装置包括一个测量室、一个真空泵组和一个限流小孔;真空泵组通过插板阀与测量室连接,限流小孔的前端通过角阀与测量室连接,后端直接与真空泵组连接;通过四极质谱仪和分离规,分别测量测量室为空和包含样品时的不同种气体的本底分压强和本底氮气当量总压强,进而得到样品氮气当量的分压放气率。本发明只需一个四极质谱计就能完成材料分压放气率的实时、连续测量,减小测量过程中由于测量腔内随真空材料放气产生的压升所带来的气体二次吸附机会,并能方便不同成分气体的横向对比。

    一种材料辐射致放气的在线测试装置和测试方法

    公开(公告)号:CN106814125A

    公开(公告)日:2017-06-09

    申请号:CN201611119916.4

    申请日:2016-12-08

    IPC分类号: G01N27/62

    摘要: 本发明公开了一种材料辐射致放气的在线测试装置,所述装置包括真空腔室系统、辐射腔室系统、抽气系统、供气系统、检测组件和数控采集单元。本发明还提出了测试材料辐射致放气量的两种方法:动态法和质谱法,均可在线实时测试,其中使用动态法和质谱法可测试同一样品的辐射致放气总量,质谱法还可准确测量辐射致放气各组分的放气分量。该装置结构简单,操作方便,且可对质谱仪和有效抽速进行校准,测试结果更为真实精确。

    一种真空环境中的矩形密封装置和密封方法

    公开(公告)号:CN106439020A

    公开(公告)日:2017-02-22

    申请号:CN201610862031.7

    申请日:2016-09-28

    IPC分类号: F16J15/10

    摘要: 本发明公开了一种真空环境中的矩形密封装置和密封方法,该装置包括矩形上法兰(1)、矩形下法兰(2)、矩形密封盒体(3)、矩形整体轮廓的密封结构(4)、压紧螺钉(5)、待密封系统安装螺钉(6)、矩形截面待密封系统(7),其中,矩形截面待密封系统(7)容纳于矩形密封盒体(3),并采用待密封系统安装螺钉(6)固定,矩形上法兰(1)和矩形下法兰(2)经由矩形整体轮廓的密封结构计矩形密封结构,解决密封装置内部空间利用率低,密封装置外部体积大、重量大、不便于移动及安置等问题,密封效果好,氦气漏率优于5×10‐11Pam3/s。(4)相配合、由压紧螺钉(5)压紧。本发明通过设

    一种真空密封性能测量装置及方法

    公开(公告)号:CN106226000A

    公开(公告)日:2016-12-14

    申请号:CN201610532002.4

    申请日:2016-07-07

    IPC分类号: G01M3/20

    摘要: 本发明公开了一种真空密封性能测量装置及方法,该装置包括第一标准漏孔(1)、第二标准漏孔(2)、第三标准漏孔(3)、吸气剂泵(4)、密封容器(5)、角阀(6)、限流小孔(7)、分子泵组(8)、第一干式机械泵(9)、插板阀(10)、真空规(11)、四极质谱计(12)、测量室(13)。该方法采用动态法测量或者静态累积法测量密封容器(5)的整体漏率,表征密封容器的密封性能,其中动态法适用于相对较大的漏率测量,其测量范围与四极质谱计(12)的最小可检信号、小孔流导相关,静态累积法适用于相对较小的氦气漏率测量,利用四极质谱计对测量室内累积的氦分压的测量进一步计算出密封容器(5)的氦漏率。

    一种使用电场降低碎屑的方法、装置和EUV光源系统

    公开(公告)号:CN103531263B

    公开(公告)日:2016-07-06

    申请号:CN201310538366.X

    申请日:2013-11-04

    IPC分类号: G21K1/087

    摘要: 本发明公开了一种使用电场降低碎屑的方法、装置和EUV光源系统。本发明在所述碎屑的传播路径上依次设置能够主动使不带电的碎屑带电的加电装置和偏转电场,所述偏转电场能够使带电的碎屑的运动方向发生偏转后被收集。本发明的实施例中EUV光源系统包括EUV辐照产生装置、光收集系统和碎屑收集装置,该EUV辐照装置用于产生EUV光,同时产生碎屑;该碎屑产生装置置于所述EUV辐照产生装置和光收集系统之间。本发明能够有效地降低碎屑对真空系统和元器件的污染,且不影响EUV光的继续传播。

    一种极紫外反射镜片的装调装置

    公开(公告)号:CN104597581A

    公开(公告)日:2015-05-06

    申请号:CN201510075790.4

    申请日:2015-02-12

    IPC分类号: G02B7/198 G03F7/20

    摘要: 本发明公开了一种镜片装调装置,用于安装和调节镜片(2),其包括腔体(1)、镜片支撑架(3)、抱压系统(4)和支承系统(5),腔体底壁具有通孔,镜片支撑架位于腔体内,用于支撑镜片,抱压系统用于将镜片固定在镜片支撑架上,支承系统从腔体的通孔穿入腔体,位于腔体内的部分与镜片支撑架的底部固定连接。支承系统包括上法兰、下法兰、波纹管和支承螺杆,上法兰、下法兰分别与波纹管的两端固定连接并且轴向对正,中心开有通孔。支承螺杆依次穿过腔体的通孔以及下法兰、波纹管、上法兰的轴心的通孔,抵顶镜片支撑架的底部。本发明能够实现镜片和镜片支撑架的三维调节,隔离真空抽气泵组对镜片的振动影响。

    一种反射式光学元件温控系统

    公开(公告)号:CN103677005A

    公开(公告)日:2014-03-26

    申请号:CN201310665292.6

    申请日:2013-12-10

    IPC分类号: G05D23/20

    摘要: 本发明公开了一种反射式光学元件温控系统,其包括测温单元、控制单元和冷却单元,冷却单元用于根据控制单元发出的控制命令可控地对反射式光学元件进行冷却,冷却单元包括扩热板(22)、环路热管(23)、半导体制冷器(24)和液冷系统(27),所述环路热管(23)包括用于传递所述光学元件(11)产生的热量的柔性管路(23b),该柔性管路还用于隔绝由液冷系统(27)产生的振动传递至所述光学元件(11)。本发明的温控系统能够在真空环境下对极紫外光学元件进行有效、高精度温控,并且不会引入振动源和污染性气体。

    一种螺旋气流动态气体锁

    公开(公告)号:CN103365119A

    公开(公告)日:2013-10-23

    申请号:CN201310343253.4

    申请日:2013-08-08

    IPC分类号: G03F7/20

    CPC分类号: G03F7/70916 G03F7/70933

    摘要: 本发明公开了一种螺旋气流动态气体锁,用于连通第一腔室和第二腔室并阻止第二腔室内的物质进入第一腔室,动态气体锁包括一两端开口的筒身,筒身具有一宽口端和一窄口端,宽口端连接第一腔室,窄口端连接第二腔室;筒身的靠近窄口端的侧面包括多个用于向筒身内部喷气的螺旋气流喷口,该多个螺旋气流喷口所喷出的气流能够围绕筒身的中心轴进行旋转,产生螺旋气流,螺旋气流汇聚到筒身的中心轴附近;筒身的靠近宽口端的侧面包括至少一个用于向筒身内部喷气的补气气流喷口,补气气流喷口吹向螺旋气流喷口在筒身的中心轴上的投影点之间。本发明可用于极紫外光刻机,在抑制杂质扩散的同时,更好的确保极紫外辐照接近无损的通过动态气体锁。