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公开(公告)号:CN101813590B
公开(公告)日:2011-11-30
申请号:CN200910078562.7
申请日:2009-02-25
申请人: 中国科学院半导体研究所
摘要: 一种微机电系统机械组元可靠性评估的测试装置,包括:一光学测量单元,用于测量微机电系统机械组元的轮廓曲线,获得被测微机电系统机械组元在失效前后的三维形貌信息或动态位移信息;一环境腔室,用于放置被测微机电系统机械组元,所述各种环境条件包括真空、气压、气氛、温度和湿度;一XY工作台,环境腔室放置在XY工作台上,可跟随XY工作台在水平面内移动,环境腔室的质量低于XY工作台正常工作的载荷限制;一环境控制与测量单元,保证在环境腔室内实现所需的各种环境条件并测量相应的环境参数;一数据采集和控制单元,用于控制XY工作台,并带动环境腔室在水平面内移动;环境控制与测量单元,实现与测量各种环境条件。
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公开(公告)号:CN101813590A
公开(公告)日:2010-08-25
申请号:CN200910078562.7
申请日:2009-02-25
申请人: 中国科学院半导体研究所
摘要: 一种微机电系统机械组元可靠性评估的测试装置,包括:一光学测量单元,用于测量微机电系统机械组元的轮廓曲线,获得被测微机电系统机械组元在失效前后的三维形貌信息或动态位移信息;一环境腔室,用于放置被测微机电系统机械组元,所述各种环境条件包括真空、气压、气氛、温度和湿度;一XY工作台,环境腔室放置在XY工作台上,可跟随XY工作台在水平面内移动,环境腔室的质量低于XY工作台正常工作的载荷限制;一环境控制与测量单元,保证在环境腔室内实现所需的各种环境条件并测量相应的环境参数;一数据采集和控制单元,用于控制XY工作台,并带动环境腔室在水平面内移动;环境控制与测量单元,实现与测量各种环境条件。
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公开(公告)号:CN201383013Y
公开(公告)日:2010-01-13
申请号:CN200920106986.5
申请日:2009-04-15
申请人: 中国科学院半导体研究所
摘要: 本实用新型公开了一种适用于激光共聚焦测量装置的光学窗口片,该光学窗口片包括:光学玻片(101);蒸镀在光学玻片(101)正面的正面增透膜(102);以及蒸镀在光学玻片(101)背面的背面增透膜(103)。该光学窗口片使用高强度、低折射率的材料制成,双面平行且双面镀增透膜,减小了激光共聚焦测量装置的测量光束透过光学窗口片进行位移测量时的系统误差,可以满足对密闭环境腔室内的样品进行非接触式光学测量的需求。
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