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公开(公告)号：CN101894831A
公开(公告)日：2010-11-24
申请号：CN200910084157.6
申请日：2009-05-20
Applicant: 中国科学院半导体研究所
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本发明提供一种紫外-红外双波段探测器及其制作方法，其中紫外-红外双波段探测器，包括：一紫外波段探测器；一红外波段探测器，该红外波段探测器通过金属键合工艺与紫外波段探测器倒装互连在一起，该紫外波段探测器与红外波段探测器的一侧对齐。本发明提供的紫外-红外双波段探测器及其制作方法，可以实现紫外和红外双波段同时探测，目标信息更加丰富，提高了器件的实用性。同时，材料生长及器件制作工艺简单，有利于器件的焦平面化。
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公开(公告)号：CN101840964B
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：CN200910080069.9
申请日：2009-03-18
Applicant: 中国科学院半导体研究所
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 一种低阻p-GaN欧姆接触电极制备方法，该方法包括：取一衬底，在衬底上生长一器件外延层；对器件外延层进行表面清洗；采用腐蚀剂将器件外延层表面的氧化物去除；光刻，将光刻板上的图形转移到器件外延层上；在器件外延层的表面生长透明电极层；剥离、退火，使透明电极层发生反应，在透明电极层的表面形成高阻层；将发生反应的透明电极层表面的高阻层去除；在透明电极层的表面依次生长连接层和电极加厚层。
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公开(公告)号：CN101840964A
公开(公告)日：2010-09-22
申请号：CN200910080069.9
申请日：2009-03-18
Applicant: 中国科学院半导体研究所
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 一种低阻p-GaN欧姆接触电极制备方法，该方法包括：取一衬底，在衬底上生长一器件外延层；对器件外延层进行表面清洗；采用腐蚀剂将器件外延层表面的氧化物去除；光刻，将光刻板上的图形转移到器件外延层上；在器件外延层的表面生长透明电极层；剥离、退火，使透明电极层发生反应，在透明电极层的表面形成高阻层；将发生反应的透明电极层表面的高阻层去除；在透明电极层的表面依次生长连接层和电极加厚层。
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公开(公告)号：CN101894831B
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN200910084157.6
申请日：2009-05-20
Applicant: 中国科学院半导体研究所
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本发明提供一种紫外-红外双波段探测器及其制作方法，其中紫外-红外双波段探测器，包括：一紫外波段探测器；一红外波段探测器，该红外波段探测器通过金属键合工艺与紫外波段探测器倒装互连在一起，该紫外波段探测器与红外波段探测器的一侧对齐。本发明提供的紫外-红外双波段探测器及其制作方法，可以实现紫外和红外双波段同时探测，目标信息更加丰富，提高了器件的实用性。同时，材料生长及器件制作工艺简单，有利于器件的焦平面化。
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