一种应用于半导体尾气处理设备的燃烧腔结构

    公开(公告)号:CN118623330A

    公开(公告)日:2024-09-10

    申请号:CN202411062123.8

    申请日:2024-08-05

    IPC分类号: F23G7/06 F23G5/44

    摘要: 本发明涉及一种应用于半导体尾气处理设备的燃烧腔结构,包括四条废气管路、燃烧器、气帘环、反应腔、多孔陶瓷砖室和上盖;所述气帘环设置在所述反应腔的内部,所述气帘环的环边连接在所述反应腔的上端口;所述气帘环内部设置有多孔陶瓷砖室;所述燃烧器连接在所述上盖上端面中部,燃烧口贯穿至所述上盖下端面;所述上盖上端面圆周连接四条所述废气管路,四条所述废气管路的下端都以倾斜切向的状态连接所述上盖;所述上盖连接在所述气帘环上。本发明的目的在于克服现有的缺陷而提供的一种应用于半导体尾气处理设备的燃烧腔结构,提高燃烧效率进而提高废气处理效率。