氩离子束扫描电子显微镜及离子光学镜筒、磁屏蔽装置

    公开(公告)号:CN119993810A

    公开(公告)日:2025-05-13

    申请号:CN202510161044.0

    申请日:2025-02-13

    Abstract: 本发明提供一种用于氩离子束扫描电镜的离子源磁屏蔽装置,该磁屏蔽装置包括多层磁屏蔽结构、多个隔离元件,多层磁屏蔽结构之间通过隔离元件保持间距和同轴,多层磁屏蔽结构安装于离子源外侧,以隔离离子源永磁铁产生的磁场,防止干扰电子束成像。本发明能够有效隔离电子回旋共振离子源(ECR)永磁铁产生的磁场,防止其干扰电子束成像,保证设备成像性能,该装置结构简单、紧凑,被动式磁屏蔽不需要额外的能源供应,成本低廉,并且易于安装和维护,磁屏蔽性能优越,实现了极低的磁场水平,磁场强度低于50nT,具有良好的应用前景。

    一种高精度闭环控制的狭缝调整装置

    公开(公告)号:CN112946848A

    公开(公告)日:2021-06-11

    申请号:CN202110128199.6

    申请日:2021-01-29

    Abstract: 本发明提供一种高精度闭环控制的狭缝调整装置,包括安装狭缝片的刀架、驱动刀架移动的驱动件、支撑驱动件的支架;其中,支架约束刀架的移动方向,刀架及支架上安装有磁栅组件;磁栅组件获取狭缝片的移动位置反馈给电控单元,电控单元根据磁栅组件反馈的移动位置控制驱动件驱动刀架移动到达预定位置,实现对狭缝片位置的闭环控制。本发明提供采用精密的步进电机,采用高精度的磁栅组件,通过控制上下两个步进电机分别驱动上下传动螺母运动,并带动上下狭缝片在导轨上做直线运动,根据磁栅尺位置反馈结果,运动到达预定位置,从而实现上下狭缝片独立调节狭缝宽度及位置,实现狭缝宽度的高精密调节。

    一种离子束截面抛光装置及方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119897754A

    公开(公告)日:2025-04-29

    申请号:CN202510161043.6

    申请日:2025-02-13

    Abstract: 本发明提供一种高效的离子束截面抛光方法及装置,包括离子源、第一聚焦模块、第二聚焦模块;其中,所述离子源用于产生离子束;所述第一聚焦模块用于对所述离子束聚焦,以提高离子束的束流密度,并初步调整离子束的形状和发散度;经过所述第一聚焦模块聚焦的离子束进入所述第二聚焦模块,所述第二聚焦模块对离子束进行单向聚焦,在另一个方向上使离子束发散,从而形成一个细长椭圆形离子束斑,以照射到待抛光的样品表面,实现高效的离子束截面抛光。本发明能够显著提升有效作用区域内的离子束流密度,从而提高抛光效率。本装置结构简单,易于集成到现有的离子束抛光设备中,具有广泛的应用前景。

    一种电动连续可调针孔装置

    公开(公告)号:CN114488514A

    公开(公告)日:2022-05-13

    申请号:CN202210196313.3

    申请日:2022-03-01

    Abstract: 本发明公开了一种电动连续可调针孔装置,属于光学元件领域,包括滑块以及两刀架结构,两刀架结构分别滑动安装于滑块,每一刀架结构包括刀片,两刀架结构的刀片相对设置,每一刀片端部设有缺口,两刀片的缺口形成针孔,两刀架结构分别相对滑块移动使针孔的尺寸以及位置改变,本申请通过一次调节,既能连续调节针孔位置又能调节针孔尺寸。

    一种高精度闭环控制的狭缝调整装置

    公开(公告)号:CN214474161U

    公开(公告)日:2021-10-22

    申请号:CN202120268185.X

    申请日:2021-01-29

    Abstract: 本实用新型提供一种高精度闭环控制的狭缝调整装置,包括安装狭缝片的刀架、驱动刀架移动的驱动件、支撑驱动件的支架;其中,支架约束刀架的移动方向,刀架及支架上安装有磁栅组件;磁栅组件获取狭缝片的移动位置反馈给电控单元,电控单元根据磁栅组件反馈的移动位置控制驱动件驱动刀架移动到达预定位置,实现对狭缝片位置的闭环控制。本实用新型提供采用精密的步进电机,采用高精度的磁栅组件,通过控制上下两个步进电机分别驱动上下传动螺母运动,并带动上下狭缝片在导轨上做直线运动,根据磁栅尺位置反馈结果,运动到达预定位置,从而实现上下狭缝片独立调节狭缝宽度及位置,实现狭缝宽度的高精密调节。

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