一种对电阻率断面进行层位校正的方法及装置

    公开(公告)号:CN108535783A

    公开(公告)日:2018-09-14

    申请号:CN201810338750.8

    申请日:2018-04-16

    IPC分类号: G01V3/38

    CPC分类号: G01V3/38

    摘要: 本发明涉及一种层位校正的方法及装置,属于地质勘测领域,具体是涉及一种对电阻率断面进行层位校正的方法及装置。包括:根据钻孔电阻率测井曲线获取探测区地层电阻率与深度信息;经过统计和分析获得地层地电断面类型,确定电性标志层;逐点对比电性标志层实际深度与断面图上深度的差异,确定各测点的补偿深度;对测线上所有测点进行补偿校正,完成电阻率断面层位校正。本发明可以在获得地层起伏和钻孔电阻率测井曲线的基础上,以电性标志层和地层标志层为基础,快速准确地对层位不匹配现象进行校正,提高电阻率断面质量和精度。

    一种对电阻率断面进行层位校正的方法及装置

    公开(公告)号:CN108535783B

    公开(公告)日:2019-07-05

    申请号:CN201810338750.8

    申请日:2018-04-16

    IPC分类号: G01V3/38

    摘要: 本发明涉及一种层位校正的方法及装置,属于地质勘测领域,具体是涉及一种对电阻率断面进行层位校正的方法及装置。包括:根据钻孔电阻率测井曲线获取探测区地层电阻率与深度信息;经过统计和分析获得地层地电断面类型,确定电性标志层;逐点对比电性标志层实际深度与断面图上深度的差异,确定各测点的补偿深度;对测线上所有测点进行补偿校正,完成电阻率断面层位校正。本发明可以在获得地层起伏和钻孔电阻率测井曲线的基础上,以电性标志层和地层标志层为基础,快速准确地对层位不匹配现象进行校正,提高电阻率断面质量和精度。