公开(公告)号：CN114340875A

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN202080041444.3

申请日：2020-06-03

Applicant: 丹麦技术大学 ,  斯洛伐克科学院 ,  埃尔朗根-纽伦堡弗里德希-亚历山大大学

Inventor： 马克西姆·普拉霍纽克 ,  奥勒·汉森 ,  博伊森·安雅 ,  托马斯·林泽维修斯 ,  伊万·昆德拉塔 ,  卡罗尔·弗勒利希 ,  朱利恩·巴赫曼

IPC: B29C64/159 ,  B29C64/209 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  C23C16/04 ,  C23C16/455

Abstract: 本发明涉及一种用于在选择区域中以原子尺度进行材料沉积、蚀刻和/或清洁的原子层工艺打印机。本发明进一步涉及一种使用所述原子层工艺打印机在选择区域中以原子尺度进行材料沉积、蚀刻和/或清洁的方法。