一种用于气体混合输送管道的循环采样装置

    公开(公告)号:CN118548440A

    公开(公告)日:2024-08-27

    申请号:CN202411029608.7

    申请日:2024-07-30

    摘要: 本发明公开了一种用于气体混合输送管道的循环采样装置,包括混合管道本体,所述混合管道本体顶面的两侧均设置有采样机构,且采样机构包括储存筒以及连通于混合管道本体顶面的L形抽样管,所述L形抽样管的一端通过第一伸缩管连通有插管,所述储存筒表面的一侧连通有进气管,所述插管的一端位于进气管的内部,所述进气管的一端设置有启闭件,本发明涉及气体采样技术领域。该用于气体混合输送管道的循环采样装置,通过插管以及启闭件的设置,能够将混合管道本体内部的气体排入至储存筒的内部,无气体外溢,并且人员在拿取储存筒时能够自动对进气管进行封闭,防止样本气体泄漏,从而达到保护样本气体的作用。

    一种半导体设备用的密封垫片生产工艺

    公开(公告)号:CN117532793B

    公开(公告)日:2024-03-15

    申请号:CN202410029539.3

    申请日:2024-01-09

    摘要: 本发明公开了一种半导体设备用的密封垫片生产工艺,涉及密封件制备技术领域,包括如下步骤:S1、选用原材料:首先准备生胶、石墨粉末、防老剂、增强剂和填充剂,然后将选用的原料按照比例投入至混炼机中进行混炼,得到密封垫片原料;S2、模压:将制得的原料投入注胶设备中,上模座与下模座组件合模后,注胶设备通过进料组件向模腔内进行注料,成型后将上模座以及下模座组件拆分进行脱模,该半导体设备用的密封垫片生产工艺,通过双杆液压缸带动第一模座和第二模座向相反方向进行移动,避免密封垫片边缘与模腔粘连,先对密封垫片边缘进行脱模,然后再通过上模座将压板向上移动,即可避免对密封垫片造成损坏,提升产品成型后的质量。

    一种半导体设备用的密封垫片生产工艺

    公开(公告)号:CN117532793A

    公开(公告)日:2024-02-09

    申请号:CN202410029539.3

    申请日:2024-01-09

    摘要: 本发明公开了一种半导体设备用的密封垫片生产工艺,涉及密封件制备技术领域,包括如下步骤:S1、选用原材料:首先准备生胶、石墨粉末、防老剂、增强剂和填充剂,然后将选用的原料按照比例投入至混炼机中进行混炼,得到密封垫片原料;S2、模压:将制得的原料投入注胶设备中,上模座与下模座组件合模后,注胶设备通过进料组件向模腔内进行注料,成型后将上模座以及下模座组件拆分进行脱模,该半导体设备用的密封垫片生产工艺,通过双杆液压缸带动第一模座和第二模座向相反方向进行移动,避免密封垫片边缘与模腔粘连,先对密封垫片边缘进行脱模,然后再通过上模座将压板向上移动,即可避免对密封垫片造成损坏,提升产品成型后的质量。

    一种宽量程的压力式MFC

    公开(公告)号:CN119045542A

    公开(公告)日:2024-11-29

    申请号:CN202411156979.1

    申请日:2024-08-22

    IPC分类号: G05D7/06

    摘要: 本发明公开了一种宽量程的压力式MFC,包括层流装置;层流装置包括层流本体,层流本体内设有层流腔,层流腔内设有层流元件;层流元件包括弹性气囊和多个自由叠放在层流腔内的层流单元;层流腔的两侧设有用于对多个层流单元进行夹持固定的夹持单元;在自然状态下,弹性气囊使得各个层流单元紧密层叠在一起,使层流腔处于封堵状态;相邻层流单元之间能够形成层流通道;从而控制层流元件的有效流通面积,实现量程的调节,以根据应用场景灵活调节量程。

    一种高精度流量比例控制阀装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118391486A

    公开(公告)日:2024-07-26

    申请号:CN202410503926.6

    申请日:2024-04-25

    IPC分类号: F16K31/53 F16K1/22

    摘要: 本发明公开了一种高精度流量比例控制阀装置,包括阀体,所述阀体的本体上设置有调控机构,所述调控机构包括阀杆,所述阀杆的外表面与阀体的内部转动连接,所述阀杆的一端与阀体的本体贯穿转动连接并延伸至阀体的外部,所述阀杆的一端固定连接有转动齿轮,所述转动齿轮的外表面啮合有齿轮组,所述齿轮组的本体贯穿固定连接有连杆,所述连杆的外部设置有转杆,所述阀杆的外表面固定连接有阀板,所述阀板的外表面与阀体的内部活动连接,涉及控制阀技术领域,解决了现有高精度流量控制阀使用时,存在着控制范围有限,导致使用范围受限,且使用固定齿轮传动,导致传动比固定,从而影响整体控制精度的问题。

    一种应用于半导体生产用的臭氧发生器

    公开(公告)号:CN117550558B

    公开(公告)日:2024-04-26

    申请号:CN202410009504.3

    申请日:2024-01-04

    摘要: 本发明公开了一种应用于半导体生产用的臭氧发生器,包括机体,所述机体的一侧安装有气体过滤组件,所述气体过滤组件包括进风过滤管,所述进风过滤管的一侧顶部设置有进风口,所述进风过滤管的内侧安装有除尘内筒,所述除尘内筒上安装有除尘活性炭滤芯,所述进风过滤管的另一侧安装有进气扰流管,所述进气扰流管贯穿进风过滤管设置在除尘内筒上;通过设置的该带有气体过滤组件的结构,当使用该装置制取臭氧时,可将气体通过过滤组件,从而将气体中的杂质与异味进行过滤,避免气体中含有杂质进入设备内部,提高臭氧的制取纯度,并且清洁后的灰尘方便收集与排出,增加了该结构的使用寿命,降低了生产成本,提高了该装置的实用性与便捷性。

    一种应用于半导体生产用的臭氧发生器

    公开(公告)号:CN117550558A

    公开(公告)日:2024-02-13

    申请号:CN202410009504.3

    申请日:2024-01-04

    摘要: 本发明公开了一种应用于半导体生产用的臭氧发生器,包括机体,所述机体的一侧安装有气体过滤组件,所述气体过滤组件包括进风过滤管,所述进风过滤管的一侧顶部设置有进风口,所述进风过滤管的内侧安装有除尘内筒,所述除尘内筒上安装有除尘活性炭滤芯,所述进风过滤管的另一侧安装有进气扰流管,所述进气扰流管贯穿进风过滤管设置在除尘内筒上;通过设置的该带有气体过滤组件的结构,当使用该装置制取臭氧时,可将气体通过过滤组件,从而将气体中的杂质与异味进行过滤,避免气体中含有杂质进入设备内部,提高臭氧的制取纯度,并且清洁后的灰尘方便收集与排出,增加了该结构的使用寿命,降低了生产成本,提高了该装置的实用性与便捷性。

    一种ALD加热炉
    9.
    实用新型

    公开(公告)号:CN218089790U

    公开(公告)日:2022-12-20

    申请号:CN202222442159.1

    申请日:2022-09-15

    摘要: 本实用新型公开了一种ALD加热炉,包括加热箱体,所述加热箱体下端前部和下端后部均安装有两个活动轮,后部所述两个活动轮之间共同安装有移动装置,所述加热箱体前端安装有柜门,所述柜门前端右部安装有把手,所述加热箱体右端中部安装有流量调节装置,所述加热箱体上端左部和上端右部共同安装有加热装置。本实用新型所述的一种ALD加热炉,通过流量调节装置电磁流量计对导入反应物的量进行检测,并将信号传递至控制器上,再由控制器控制电动控制阀的开启或者闭合以对导入量进行把控,通过加热装置上的均流板的设计,其能够使气体平稳均匀的流出,进而提高了成膜均匀性,通过移动装置方便加热箱体进行挪动。

    一种改进型特气柜
    10.
    实用新型

    公开(公告)号:CN218032638U

    公开(公告)日:2022-12-13

    申请号:CN202222499537.X

    申请日:2022-09-21

    摘要: 本实用新型公开了一种改进型特气柜,包括特气柜主体,所述特气柜主体的上端前部固定连接有三个固定管,三个所述固定管的上端均固定连接有连接管,三个所述固定管的外表面前部均贯穿并螺纹连接有阀门结构,所述特气柜主体的上端后部固定连接有排风管,所述特气柜主体的下端前部和下端后部均固定连接有移动结构,两个所述移动结构呈对称分布。本实用新型所述的一种改进型特气柜,通过设置阀门结构和移动结构,手握十字扭杆旋转螺杆,防止手滑,便于控制气体开合,结构简单,操作较为便捷,保证特气柜使用的稳固性,避免可移动的特气柜出现自由移动,便于快速固定特气柜,提高特气柜使用的防移性。