一种肖特基势垒二极管及其制备方法

    公开(公告)号:CN112164726B

    公开(公告)日:2022-11-08

    申请号:CN202010966449.9

    申请日:2020-09-15

    Applicant: 五邑大学

    Abstract: 本发明属于半导体技术领域,公开了一种肖特基势垒二极管及其制备方法,所述肖特基势垒二极管包括以下结构:衬底层;半导体层,设置于衬底层的上表面,所述半导体层为GaN薄膜;阳极和阴极,均设置于半导体层的上表面,所述阳极为Ti3C2二维材料;阳极金属接触层,设置于所述阳极的上表面;阴极金属接触层,设置于所述阴极的上表面。所述肖特基势垒二极管在保持性能优良的情况下,还具有成本低廉的优势,具有广阔的应用前景。

    一种紫外光电二极管及其制备方法

    公开(公告)号:CN112164732B

    公开(公告)日:2022-04-05

    申请号:CN202010968434.6

    申请日:2020-09-15

    Applicant: 五邑大学

    Abstract: 本发明属于半导体技术领域,公开了一种紫外光电二极管及其制备方法。所述紫外光电二极管,包括以下结构:衬底;GaN层,设置于所述衬底的上表面;Ti3C2肖特基接触层和欧姆接触层,相对设置于所述GaN层上表面的两侧;金属触点层,设置于所述Ti3C2肖特基接触层的上表面。所述紫外光电二极管具有优异的紫外光探测性能,响应度率大,比探测率高,响应速度快,且具有高电流开关比;所述制备方法无需复杂的金属沉积或溅射工艺,对半导体表面无损伤,工艺简单。

    一种紫外光电二极管及其制备方法

    公开(公告)号:CN112164732A

    公开(公告)日:2021-01-01

    申请号:CN202010968434.6

    申请日:2020-09-15

    Applicant: 五邑大学

    Abstract: 本发明属于半导体技术领域,公开了一种紫外光电二极管及其制备方法。所述紫外光电二极管,包括以下结构:衬底;GaN层,设置于所述衬底的上表面;Ti3C2肖特基接触层和欧姆接触层,相对设置于所述GaN层上表面的两侧;金属触点层,设置于所述Ti3C2肖特基接触层的上表面。所述紫外光电二极管具有优异的紫外光探测性能,响应度率大,比探测率高,响应速度快,且具有高电流开关比;所述制备方法无需复杂的金属沉积或溅射工艺,对半导体表面无损伤,工艺简单。

    一种肖特基势垒二极管及其制备方法

    公开(公告)号:CN112164726A

    公开(公告)日:2021-01-01

    申请号:CN202010966449.9

    申请日:2020-09-15

    Applicant: 五邑大学

    Abstract: 本发明属于半导体技术领域,公开了一种肖特基势垒二极管及其制备方法,所述肖特基势垒二极管包括以下结构:衬底层;半导体层,设置于衬底层的上表面,所述半导体层为GaN薄膜;阳极和阴极,均设置于半导体层的上表面,所述阳极为Ti3C2二维材料;阳极金属接触层,设置于所述阳极的上表面;阴极金属接触层,设置于所述阴极的上表面。所述肖特基势垒二极管在保持性能优良的情况下,还具有成本低廉的优势,具有广阔的应用前景。

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