公开(公告)号：CN100575537C

公开(公告)日：2009-12-30

申请号：CN200680027360.4

申请日：2006-07-20

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： M·龙 ,  B·E·寇佩

IPC: C23C14/24

CPC classification number: C23C14/246

Abstract: 一种在均匀的速率下蒸发材料而在基材上形成层的方法，包括：从保持在低于材料的有效蒸发温度之下的温度可控区向蒸发能量源提供可蒸发材料柱，其中，在蒸发期间柱体积可以改变；以及提供向柱表面传送恒定热流的蒸发能量源，使得单位时间内均匀体积的可蒸发材料被蒸发从而在基材上成层，而与供给速率无关。

公开(公告)号：CN101248206A

公开(公告)日：2008-08-20

申请号：CN200680027360.4

申请日：2006-07-20

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： M·龙 ,  B·E·寇佩

IPC: C23C14/24

CPC classification number: C23C14/246

Abstract: 一种在均匀的速率下蒸发材料而在基材上形成层的方法，包括：从保持在低于材料的有效蒸发温度之下的温度可控区向蒸发能量源提供可蒸发材料柱，其中，在蒸发期间柱体积可以改变；以及提供向柱表面传送恒定热流的蒸发能量源，使得单位时间内均匀体积的可蒸发材料被蒸发从而在基材上成层，而与供给速率无关。