涂层室和用于自上而下涂层的涂层设备

    公开(公告)号:CN216936063U

    公开(公告)日:2022-07-12

    申请号:CN202220659520.3

    申请日:2022-03-24

    Abstract: 本实用型涉及一种涂层室和用于自上而下涂层的涂层设备,所述涂层室具有:i.用于容纳垂直定向的基材(2)的第一单元(3);ii.用于在所述垂直定向的基材(2)的下侧面(5)上提供负压的第二单元(4);iii.用于使通过所述第二单元(4)而产生的穿过所述基材(2)的气流(6)转向的第三单元(7),所述第一单元(3)和所述第二单元(4)如此设计,使得所述气流(6)只可穿过基材(2);其特征在于,所述第三单元(7)使所述气流(6)在穿越所述基材(2)之后转向超过90°。本实用新型通过指定一种涂层室以稳健的方式方法简单但又出人意料地来实现具有均匀区界的均匀涂层。

Patent Agency Ranking